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真空鍍膜操作規程

1.在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，必須先開水管，工作中應隨時注意水壓。

2.在離子轟擊和蒸發時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電......1.在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，必須先開水管，工作中應隨時注意水壓。

2.在離子轟擊和蒸發時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。

3.在用電子槍鍍膜時，應在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃鉛玻璃，觀察時應戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。

4.鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。

5.有毒物品要妥善保管，以防。

6.酸洗夾具應在通風裝置內進行，并要戴橡皮手套。

7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時，應輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時酸洗槽盆應加蓋。

8.工作完畢應斷電、斷水。

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CVD真空鍍膜廠家的TAC膜層特點及應用：本公司為客戶提供質高價優的鍍膜服務，鍍制的主要膜層有TAC（金剛石膜），這種膜層有以下性能：

TAC膜層的特點：

1.    TAC(類金剛石)膜層有很高的硬度（HV6000）,優良的耐磨性能，摩擦系數極低（低至0.08），膜層厚度1-2um

2.    具有優異的耐蝕性，能耐各種酸、堿等腐蝕。

3.    對金屬、塑料、橡膠、陶瓷等均有良好的抗粘結和防咬合性能

4.    表面粗糙度低（可達鏡面級）

5.    與基體結合力很強，可以在各種鋼鐵、鈦合金、鋁合金、硬質合金等材料上沉積

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真空鍍膜的優點

TiN

中文名:氮化鈦;

顏色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系數:0.23VSNi;

zui高工作溫度:580℃;

優點:增加表面硬度、減少摩擦力;可低溫涂層，適合低溫零件;避免刀口之積屑現象;廣泛應用於鋼料成型加工。

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優于固體材料本身的優越性能，達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得顯著技術經濟效益的作用。

真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數小，經過表面拋光的金屬材料的表面對鋼摩擦系數一般在0.9左右，真空PVD鍍膜涂層對鋼材的摩擦系數在0.01～0.6之間，常用于壓鑄模具的真空PVD鍍膜涂層材料（AlCrN，AlTiN）摩擦系數一般在0.4-0.6，低的摩擦系數使經過真空PVD鍍膜處理的模具在加工過程中與被加工零件的表面摩擦降低，零件表面品質優于沒有涂層的模具所生產的零件。