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發布時間:2021-04-16 18:36  





鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質、材料、環境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。
Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動態線性范圍和更低的背景。
自激式固態射頻發生器,有效穩定,體積小巧,匹配速度快,確保Plasma 3000
ICP光譜儀精度較高運行及優異的長期穩定性。
高速面陣 CCD 采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現“全譜直讀”。
功能強大的軟件系統,簡化分析方法的開發過程。應用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數
1. 光學系統:中階梯二維分光光學系統,焦距400mm
2. 譜線范圍:165nm~900nm,光學分辨率:0.007nm(200nm處)
3. 光柵規格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm
4. 晶體管固態射頻發生器,小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限
6. 自動匹配調節
7. 全組裝式炬管,降低了維護成本
8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵,具有快速清洗功能
9. 實驗數據穩定性良好:重復性
RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩定性:RSD
≤2.0%(大于3小時)

由鋼研納克承擔的國家重大科學儀器設備開發專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發內容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題,接近于商品水平的產品樣機將于年內完成;ICP質譜儀第二代研發樣機已成功組裝和調試,采集到正確的譜圖,這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統、接口及離子傳輸系統以及射頻發生器系統3個關鍵、難點技術已經實現原理攻克。為高質量、按期完成項目任務和本單位新產品開發任務奠定了堅實的基礎。
鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀
2015年10月14日,中國分析測試協會組織在北京對鋼研納克檢測技術有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項成果進行了鑒定。本次鑒定組成員包括:清華大學張新榮、中國分析測試協會張渝英、中國分析測試協會汪正范研究員、科學儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學、北京科技大學劉杰民。鋼研納克檢測技術有限公司賈云海總經理、技術中心沈學靜、項目負責人及項目骨干出席本次鑒定會。
本次鑒定會由鑒定組組長張新榮主持,項目組向組成員詳細匯報了成果情況,組審議了成果研制報告、成果查新報告、檢驗報告和用戶報告等項目鑒定資料,并觀看了儀器現場操作演示,進行了質詢。在此基礎上,們進行了認真討論,一致同意并通過了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。
鑒定結論如下:
“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術指標達到:波長范圍:165~900nm;200nm處分辨率0.007nm;自主研發固態射頻發生器,功率范圍800W~1600W,連續1瓦可調,功率穩定性優于0.1%,具有自動匹配調諧功能;軟件一鍵點火,電路具有全自動保護功能;具有儀器參數自動優化功能;具有激光剝蝕進樣系統接口,可配備有機進樣系統、高鹽和耐進樣系統,可使用有機進樣系統直接測試油品。具有(1)成功攻克了固態射頻發生器、高分辨二維全譜光譜系統等關鍵技術;(2)自主研發的高分辨率二維分光系統,無需切換光路,一次曝光即可獲取全部譜線數據;(3)建立了多種樣品分析的方法數據庫等點。該儀器技術指標已達到國內同類產品水平,已實現銷售,具有良好市場前景。