AF真空鍍膜機報價

引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些

由于殘余氣體的存在，不但影響膜的純度及質量，還會產生。所以在生產中要選用高純度的氣為工作氣體，嚴格控制真空室的漏氣速率，以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下，要經常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環境，減少擴散泵返油對玻璃的污染。同時可適當提高陰極的濺射功率，以增加粒子動能及擴散能力，這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質，減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講，同一基片上膜層厚薄不同，就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強度（B）對膜層均勻度的影響磁控濺射的關鍵參數之一是與電場垂直的水平磁場強度B，因為水平磁場強度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數值。而實際生產過程中值是隨著使用方法及時間的推移，產生一定的變化，而出現不均勻現象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區的變化情況就可以驗證。

高真空蒸發鍍膜設備有哪些特點

真空蒸發鍍膜裝置，是在真空室中利用電阻加熱，將金屬鍍料熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。真空蒸發鍍膜裝置，是在真空室中利用電阻加熱，將金屬鍍料熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

高真空蒸發鍍膜設備具有結構合理、抽速大、工作周期短、生產、操作方便，能耗低、工作穩定，且膜層均勻、成膜質量好等優點。該設備主要廣泛應用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、手機、反光杯、化妝品、玩具等行業。

可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龍、玻璃、陶瓷、金屬等。

可鍍基材表面狀態：電鍍亮面、啞光面（半啞、全啞）、工藝電鍍、拉絲、雨滴等；鍍制顏色有：金、銀、紅、藍、綠、紫、七彩等。可根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。

真空鍍膜機鍍膜原理：

高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化，均勻分布在鏡片表面。

1.全表面單層鍍膜（FC）:所有接觸空氣的玻璃表面都鍍了單層減反增透膜。如果在所有的空氣介面上都鍍上單層減反增透膜，會在一個波段上取得更高的透光率。為方便工藝，在全表面單層減反膜的設計中，某一片的二個面中心波長通常一致。

2.多層減反增透膜和寬帶膜（MC）:單層膜的剩余反射率仍顯高，偏色現象比較嚴重。要進一步提高透光率，可用雙層Ｖ形增透膜，用層鍍膜控制鏡片的反射率，第二層鍍膜改善光透射率。對于單層氟化鎂膜，光學玻璃的折射率ng是太低，可先鍍一層厚度為λc2/4（λc2為光在鍍膜中的波長）的折射率大于鏡片折射率的一氧化硅膜（折射率為nc2），這時薄膜和基片的組合系統可以用一折射率為v=nc2^2/ng的假想基片來提高鏡片的折射率，然后鍍上一層λc1/4氟化鎂膜層來減少反射率。但對于偏離λ的波長，不能等價也不能滿足干涉相消的條件，故分光曲線呈Ｖ形，色彩仍不平衡。

要進一步消除彩斑幻象，平衡色彩可用雙層或多層Ｗ形寬帶減反增透膜，多層減反增透膜系還原真實色彩，并不是要求鏡片在可見光(370nm―680nm)光譜范圍內透過率一致。而是要求在藍、綠、紅光（370nm―480nm、500-550nm、580nm―680nm）三個通道通過的光線恰好可以合成標準的白光。這種膜系的反射率曲線在520nm-540nm區間形成一個0.8%左右的反射峰，在440nm和640nm處有二個反射谷，形狀像W曲線，所以叫W形減反增透膜。這種膜系的反光為翠綠色所以也稱減反綠膜。