萊寶分子真空泵型號(hào)多重優(yōu)惠

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發(fā)布時(shí)間：2020-10-28 16:44

廣州潽拓光電科技有限公司是一家專業(yè)做萊寶分子泵維修、德國(guó)萊寶真空泵維修、原裝萊寶真空泵維修、萊寶渦輪分子泵維修的公司，專業(yè)萊寶分子泵保養(yǎng)維修，修理，萊寶復(fù)合分子泵維修，修理，現(xiàn)在針對(duì)廣州各地可以上門收件。

潽拓光電科技---怎么檢查萊寶真空泵？萊寶單級(jí)旋片泵SOGEVAC SV28 BI

1.檢查真空泵管路及結(jié)合處有無(wú)松動(dòng)現(xiàn)象。用手滾動(dòng)真空泵，試看真空泵是否靈活。

2.向軸承體內(nèi)加入軸承潤(rùn)滑機(jī)油，觀察油位應(yīng)在油標(biāo)的中央線處，潤(rùn)滑油應(yīng)及時(shí)更換或增補(bǔ)。

3.擰下真空泵泵體的引水螺塞，灌注引水或引漿。

4.關(guān)好出水管路的閘閥和出口壓力表及入口真空表。

5.點(diǎn)動(dòng)電機(jī)，試看電機(jī)轉(zhuǎn)向是否準(zhǔn)確。

6.開動(dòng)電機(jī)，認(rèn)真空泵正常運(yùn)轉(zhuǎn)后，打開出口壓力表和入口真空泵，視其顯示出適當(dāng)壓力后，逐漸打開閘閥，同時(shí)檢查電機(jī)負(fù)荷情況。

潽拓光電科技---真空泵特點(diǎn)是什么？

真空泵是指利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對(duì)被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來(lái)講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。

1：寬的壓力范圍內(nèi)有較大的抽速；

2：有良好的幾何對(duì)稱性，故振動(dòng)小，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)。轉(zhuǎn)子間及轉(zhuǎn)子和殼體間均有...

潽拓光電科技---真空泵有哪些類型？

按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。單級(jí)旋片式真空泵：SV16B，SV25B，SV40B，SV65B，SV100B，SV200，SV300，SV630，SV630F。其廣泛用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。真空泵是用各種方法在某一封閉空間中產(chǎn)生、改善和維持真空的裝置。真空泵可以定義為：利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對(duì)被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。

潽拓光電科技---真空泵的發(fā)展

隨著真空應(yīng)用的發(fā)展，真空泵的種類已發(fā)展了很多種，其抽速?gòu)拿棵肓泓c(diǎn)幾升到每秒幾十萬(wàn)、數(shù)百萬(wàn)升。隨著真空應(yīng)用技術(shù)在生產(chǎn)和科學(xué)研究領(lǐng)域中對(duì)其應(yīng)用壓強(qiáng)范圍的要求越來(lái)越寬，大多...

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INFICON BPG400 大氣壓至超高真空真空計(jì)

INFICON Bayard-Alpert 皮拉尼復(fù)合真空計(jì) BPG400 將 Bayard-Alpert 和皮拉尼兩種真空計(jì)的功能融合入單個(gè)緊湊型裝置中，測(cè)量范圍為 5×10-10 mbar至大氣壓（3.8×10-10 Torr 至大氣壓)。廣泛應(yīng)用于化工，食品，建材等部門，特別是在真空結(jié)晶，干燥，過(guò)濾，蒸發(fā)等工藝過(guò)程中更為適宜。多項(xiàng)技術(shù)相結(jié)合降低了安裝、設(shè)置和集成的復(fù)雜性。選擇 BPG400 單一經(jīng)濟(jì)型封裝，在低成本、可重復(fù)的過(guò)程中進(jìn)行基礎(chǔ)壓力測(cè)量。

概述

規(guī)格零件號(hào)附件備件好處從 5 x 10-10 mbar 至大氣氣壓（3.8 x 10-10 Torr 至大氣氣壓）的極其寬泛的測(cè)量范圍在 10-8 … 10-2 mbar 5% 工藝壓力范圍內(nèi)為表現(xiàn)出很好的重復(fù)性皮拉尼聯(lián)鎖保護(hù) Bayard-Alpert 系統(tǒng)在高壓操作下絲極過(guò)早燒毀和過(guò)度污染長(zhǎng)使用壽命氧化釔銥絲備有可選的圖形顯示器和現(xiàn)場(chǎng)總線接口高真空皮拉尼自動(dòng)調(diào)節(jié)，減少操作員的干預(yù)符合 RoHS 標(biāo)準(zhǔn)低真空至超高真空范圍內(nèi)的一般真空測(cè)量和控制典型應(yīng)用對(duì)半導(dǎo)體過(guò)程和傳輸腔室的壓力測(cè)量工業(yè)鍍膜低真空至超高真空范圍內(nèi)的一般真空測(cè)量和控制