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簡述

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜特點

編輯鍍鋁薄膜與鋁箔復合材料相比具有以下特點：（1）大大減少了用鋁量，節省了能源和材料，降低了成本，復合用鋁箔厚度多為7～9pm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0．05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產速度可高達450m/min。（2）具有優良的耐折性和良好的韌性，很少出現和裂口，無揉曲龜裂現象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。

真空鍍膜開發成功

據估計，間斷式批量生產的真空鍍金屬工藝的生產率僅是連續生產式工藝的50%。更有甚者，在每爐生產后，在再行生產第二爐前要投人大量而艱辛的勞動以去除聚集于爐中的無效金屬蒸汽類廢料以及清除鍍金屬爐的內部，使之清潔干凈。此種棘手問題，隨著蒸鍍金屬工藝的發明、采用而俱來已有多年。因此.如何使蒸鍍過程一直處于真空狀態中.并能連續進行生產，這是國外從事表面蒸鍍金屬工藝和設備的科技人員們所孜孜以求企盼解決的目標。