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離子束刻蝕機的應用

創世威納——專業離子束刻蝕機產品供應商，我們為您帶來以下信息。

應用先進的離子束濺射和離子束刻蝕工藝,將應變電橋直接制作在金屬測壓膜片上。由于不用傳統的膠粘工藝，顯著改善了應變式傳感器的長期穩定性及抗蠕變特性,使產品使用的溫度范圍大為擴展。由于沒有活動部件，抗振動和抗沖的能力很強，可用于惡劣的環境。

離子束刻蝕機的工作原理

通入工作氣體ya氣，氣壓10-2- 10-Torr之間，陰極放1射出的電子向陽極運動，在運動過程中，電子將工作氣體分子電離，在樣品室內產生輝光放電形成等離子體。其中電子在損失能量后到達陽極形成陽極電流，而ya離子由多孔柵極引出，在速系統作用下，形成一個大面積的、束流密度均勻的離子束。為減少束中空間電荷靜電斥力的影響，減少正離子轟擊基片時，造成正電荷堆積，離子束離開加速電極后，被中和器發出的電子中和，使正離子束變成中性束，打到基片上，進行刻蝕。

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離子束刻蝕機

離子束加工的應用范圍正在日益擴大，不斷創新。

目前用于改變零件尺寸和表面物理力學性能的離子束加工工藝主要有用于從工件上作去除加工的離子刻蝕加工、用于給工件表面添加的濺射鍍膜和離子鍍膜加工以及用于表面改性的離子注入加工。

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離子束分析具有一定能量的離子與物質相互作用會使其發射電子、光子、X射線等，還可能發生彈性散射、非彈性散射以及核反應，產生反彈離子、反沖核、γ射線、氫核、氚核、粒子等核反應產物，可以提供有關該物質的組分、結構和狀態等信息。利用這些信息來分析樣品統稱離子束分析。在離子束分析方法中，比較成熟的有背散射分析X射線熒光分析、核反應分析和溝道效應（見溝道效應和阻塞效應）與其他分析相結合的分析方法等。此外，利用低能離子束還可作表面成分分析,如離子散射譜(ZSS)、次級離子質譜(SZMS)等。超靈敏質譜（質譜）、帶電粒子活化分析、離子激發光譜、離子激發俄歇電子譜等正在發展中。用于離子束分析的MV級已有專門的商業化設備。