icp光譜儀報價貨真價實

鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點

1.   分析流程全自動化控制，實現軟件點火、氣路智能控制功能；

2.   輸出功率自動匹配調諧，功率參數程序設定；      

3.   優良的光學系統，先進的控制系統，保證峰位定位準確，信背比優良；

4.   較小的基體效應；      

5.   測量范圍寬，超微量到常量的分析，動態線性范圍5—6個數量級；

6.   檢出限低，大多數元素的檢出限可達ppb級；

7.   良好的測量精度，穩定性相對標準偏差RSD≤1.5%（5ppm），優于國家A等級標準（JJG768-2005）；

8.  

Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩定性小于0.1%；

9.   光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調，可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；

11. 精度較高的光室恒溫系統，保證儀器優良的長短期精度；

12. 多通道蠕動泵進樣，保證儀器進樣均勻，工作穩定；

13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規定小于10V/m）。

14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設計，操作方便，終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中，進行數據處理，方法編制和結果分析，是真正的多任務工作軟件；該軟件數據處理功能強大，提供了多種方法，如內標校正、IECS和QC監測功能等，可獲得的背景扣除點以消除干擾；對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。

鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

1.   光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

2.   光室恒溫：(30±0.2)℃      

3.   光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵

4.   分辨率：不大于0.007nm  

5.   刻線密度：3600g/mm          

6.   高頻發生器震蕩頻率：40.68MHz   功率穩定度：0.1%（長期25℃典型值）

7.   震蕩類型：自激式        

8.   進樣方式：蠕動泵進樣

配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室）

9.   霧1化器：同心霧化1器

10. 重復性：RSD ≤1.0%

11. 穩定性：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）

16. 重量：240公斤

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能

檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長期穩定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）

光  源

自激式固態射頻發生器，功率連續 1 瓦可調 震蕩頻率：27.12MHz

輸出功率：700W-1600W 功率穩定性：< 0.1%

儀器規格

尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重  量：約 180kg

光學系統

分析譜線范圍：165-950nm

分  辨  率： 0.007nm@200nm

光室恒溫：38℃ ±0.1℃

CCD 像素：1024x 1024

單像素面積：24μm x 24μm

工作環境

實驗室濕度環境：相對濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%

排  風：不小于 400 立方米 / 小時

電  源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

鋼研納克擬負責起草ICP-AES國家標準

鋼研納克擬負責起草《電感耦合等離子體發射光譜儀》國家標準

儀器信息網訊 2014年10月28日，國家標準委決定發布通知對2014年第二批擬立項國家標準項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發射光譜儀》國家推薦標準。主管部門為中國機械工業聯合會，歸口單位為國工業過程測量和控制標準化技術會，起草單位為鋼研納克檢測技術有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發射光譜儀》標準將規定電感耦合等離子體原子發射光譜儀的術語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規則、標志、包裝、運輸和貯存。

據介紹，制定該標準旨在提升我國ICP光譜儀的生產制造規范性，使儀器性能穩定;通過規范生產提高ICP光譜儀生產企業準入門檻，形成具有競爭力的企業。從而縮小國產儀器同國外儀器的性能差距，提高國產ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產業發展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術有限公司研發生產電感耦合等離子體發射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發專項”成果。