北京AF真空鍍膜設備廠家值得信賴

什么是光學鍍膜：

光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

光學鍍膜原理：真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進行的涂料，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發涂層通常是加熱目標，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發，并通過成膜方法（散射島結構-梯形結構-層狀生長）沉積在基材的表面上，薄膜。

對于濺射狀涂層，很容易理解目標材料是用電子或高能激光器轟擊的，表面組分以自由基或離子的形式濺射，后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見的光學鍍膜材料有以下幾種：

1、二氧化硅材料特點：無色透明晶體，熔點高，硬度大，化學穩定性好。純度高，用其制備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

2、氧化鋯材料特點白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性能，化學性質穩定，純度高，用其制備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。

真空鍍膜機蒸發系統介紹

真空鍍膜機蒸發系統主要指成膜裝置部分，鍍膜機器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發兩種方式作介紹，因為此兩種方式我應用的比較多。

電阻蒸發根據其結構和工作原理是目前為止應用多，廣泛的蒸發方式，也是應用時間長的蒸發方式。它的工作方式是，將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，在鎢舟中央加上藥材，再緩緩給電極通電，電流通過鎢舟，鎢舟通電發熱，這些低電壓，大電流使高熔點的鎢舟產生熱量，再熱傳導給鍍膜材料，當鎢舟的熱量高于鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發了，此方法由于操作方便，結構簡單，成本低廉，故被很多設備應用，但是其蒸發出來的薄膜由于致密性不佳，加上很多材料無法采用這種方式蒸鍍，所以其有一定局限性。鎢舟蒸發鍍膜材料的時候，材料的熔點必須小于鎢舟的熔點，否則就沒有辦法進行。

減少真空鍍膜機中灰塵的方法

如今真空鍍膜機鍍膜技術在生活中隨處可見，但真空鍍膜機在日常使用中，經常累積上一層灰塵，這影響到后期鍍膜的整體效果，那么日常有哪些方法能減少真空鍍膜機中的灰塵呢？由于灰塵對鍍膜效果會產生比較大的影響，因此未來避免在真空鍍膜設備中留下灰塵，應該在使用過程中注意以下幾點來盡量避免，除此也要注意經常清洗，避免灰塵越積越多。

（1）真空鍍膜機一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理；

（2）真空鍍膜適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物；

（3）工作人員在操作時需要戴手套、鞋套等，要有規范的服裝，以保證平時工作中的清潔；

（4）真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求；

（5）設備樣品取出后要注意放置環境的清潔問題；

（6）設備使用的源材料要符合必要的純度要求；