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              PR1 2000A1光刻膠報(bào)價(jià)價(jià)格行情

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              發(fā)布時(shí)間:2020-07-31 02:16  






              光刻膠分類


              市場(chǎng)上,光刻膠產(chǎn)品依據(jù)不同標(biāo)準(zhǔn),可以進(jìn)行分類。依照化學(xué)反應(yīng)和顯影原理分類,光刻膠可以分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。使用正性光刻膠工藝,形成的圖形與掩膜版相同;使用負(fù)性光刻膠工藝,形成的圖形與掩膜版相反。

              按照感光樹(shù)脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)分類,光刻膠可以分為①光聚合型,采用烯類單體,在光作用下生成自由基,進(jìn)一步引發(fā)單體聚合,后生成聚合物,具有形成正像的特點(diǎn);②光分解型,采用含有疊氮醌類化合物的材料,其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),可以制成正性膠;③光交聯(lián)型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,可以制成負(fù)性光刻膠。2.請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有可以替代goodpr1518,Micropure去膠液和goodpr顯影液的產(chǎn)品。

              按照曝光波長(zhǎng)分類,光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm)、深紫外光刻膠(160~280nm)、極紫外光刻膠(EUV,13.5nm)、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。光刻膠基于應(yīng)用領(lǐng)域不同一般可以分為半導(dǎo)體集成電路(IC)光刻膠、PCB光刻膠以及LCD光刻膠三個(gè)大類。不同曝光波長(zhǎng)的光刻膠,其適用的光刻極限分辨率不同,通常來(lái)說(shuō),在使用工藝方法一致的情況下,波長(zhǎng)越小,加工分辨率越佳。


              NR77-15000PYPR1 2000A1光刻膠報(bào)價(jià)PR1 2000A1光刻膠報(bào)價(jià)

              光刻膠穩(wěn)定性

              化學(xué)穩(wěn)定性:在正常儲(chǔ)存和操作條件下,在密閉容器中室溫穩(wěn)定。

              避免的條件: 火源、濕氣、過(guò)熱的環(huán)境。

              不相容的其他材料: 強(qiáng)氧化劑。

              光刻膠毒理資料

              淡黃色液體,氣味微弱。引起皮膚、眼睛、粘膜和呼吸道的刺激。可以通過(guò)皮膚吸收而引起全身性的癥狀。液體是可燃的。

              毒性數(shù)據(jù)

              皮膚:可以通過(guò)皮膚吸收而引起全身性的癥狀,類似于吸入。長(zhǎng)時(shí)間或重復(fù)接觸可引起輕度至中度的刺激或皮炎。

              眼睛:引起眼睛發(fā)炎。

              吸入:吸入時(shí)可能有害。引起呼吸道刺激。蒸氣可能導(dǎo)致困倦和頭暈。

              攝食:吞食有害。

              延遲效應(yīng):肝和損害,以及動(dòng)物實(shí)驗(yàn)中有報(bào)道血液和GU髓有影響。


              PR1-1000A1

              NR9-3000PY 負(fù)性光刻膠

              負(fù)膠 NR9-3000PY 被設(shè)計(jì)用于i 線(365 nm)曝光,可使用如步進(jìn)光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻

              和接觸式光刻等工具。

              顯影之后,NR9-3000PY 展現(xiàn)出一種倒梯形側(cè)壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。

              NR9-3000PY 相對(duì)于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢(shì):

              - 優(yōu)異的分辨率性能

              - 快速地顯影

              - 可以通過(guò)調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度

              - 耐受溫度100℃

              - 室溫儲(chǔ)存保質(zhì)期長(zhǎng)達(dá)3 年

              Lift-Off工藝

              應(yīng)用領(lǐng)域:LEDs,OLEDs,displays,MEMS,packaging,biochips。

              濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)

              附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C

              Resist Thickness NR9-3000PY 負(fù)性光刻膠

              負(fù)膠 NR9-3000PY 被設(shè)計(jì)用于i 線(365

              nm)曝光,可使用如步進(jìn)光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻



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