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磁控濺射鍍膜機工藝

（1）技術方案 磁控濺射鍍光學膜，有以下三種技術路線： （a）陶瓷靶濺射：靶材采用金屬化合物靶材，可以直接沉積各種氧化物或者氮化物，有時候為了得到更高的膜層純度，也需要通入一定量反應氣體）； （b）反應濺射：靶材采用金屬或非金屬靶，通入稀有和反應氣體的混合氣體，進行濺射沉積各種化合物膜層。 （c）離子輔助沉積：先沉積一層很薄的金屬或非金屬層，然后再引入反應氣體離子源，將膜層進行氧化或者氮化等。 采用以上三種技術方案，在濺射沉積光學膜時，都會存在靶zhong毒現象，從而導致膜層沉積速度非常慢，對于上節介紹各種光學膜來說，膜層厚度較厚，膜層總厚度可達數百納米。這種沉積速度顯然增加了鍍膜成本，從而限制了磁控濺射鍍膜在光學上的應用。所鍍的膜通常可以消化吸收、散射、反射面、折射角、偏光等實際效果。

（2）新型反應濺射技術 筆者對現有反應濺射技術方案進行了改進，開發出新的反應濺射技術，解決了鍍膜沉積速度問題，同時膜層的純度達到光學級別要求。表2.1是采用新型反應濺射沉積技術，膜層沉積速度對比情況。

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淺析磁控濺射鍍膜儀鍍膜優勢

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我們知道每一種鍍膜方式的不同都有不一樣的差異，這處理根據鍍膜的方式不同之外，還跟所鍍的材料有關系，這種差別我們很難看出來，因為根據目前的鍍膜行業中的一些gao端設備，比如說磁控濺射鍍膜儀，都是屬于比較精細的一種鍍膜機械。

那么在現今的發達科技中，磁控濺射鍍膜儀鍍膜有哪些優勢呢？下面小編來深入的分析一下：

磁控濺射鍍膜設備所鍍的膜穩定性好，這是因為其膜不僅厚，而且所生成的時候非常穩定，另外還根據濺射電流來控制。我們知道電流越大，這種設備的濺射率也就相對的變大，這也是磁控濺射鍍膜設備非常穩定的一個因素。

另外采用磁控濺射鍍膜設備來生成膜層，不管鍍多少次膜，他所鍍出來的膜厚度基本上是一樣的，而且非常穩定。

從上述淺析中，我們不難發現磁控濺射鍍膜設備的優勢，其實就是在于穩定，這也是目前一些精細產品鍍膜選擇這種設備的原因。

我國真空鍍膜機行業發展現狀和前景分析

我國鍍膜機械，經過了幾十年發展，形成了門類齊全、布局合理，品種配套，真空鍍膜技術水平與鍍膜工業發展基本適應的體系，真空鍍膜設備已經不能再叫新行業了，其是一個有創新能力的成熟行業，鍍膜技術從重污染轉為輕污染直至以后的無污染，創新是前提，隨著更新型節能環保的真空機械設備研發必將改變整個工業。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。

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磁控濺射

（1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉換效率。

（2）裝飾領域的應用，如各種全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。

（3） 在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積（CVD）或金屬有機

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