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發布時間:2021-09-14 04:08  





濺射鍍膜技術是用離子轟擊靶材表面,濺射產生的原子沉積在基體表面形成PVD涂層。通常是利用氣體放電產生氣體電離,其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體,擊出陰極靶體原子或分子,飛向被鍍基體表面沉積成PVD涂層。磁控濺射鍍膜技術是在濺射鍍膜基礎上發展而來,與濺射鍍膜相比,沉積速率更快,涂層致密且與基體附著性好。
真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內,采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
在真空條件下成膜有很多優點:可減少蒸發材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的化學反應(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量,從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
佛山市錦城鍍膜有限公司積極打造一支的研發人員何技術工人隊伍。我司奉行“質量就是生存,服務就是發展”的宗旨,顧客就是上帝,需求就是命令,用心的服務換取客戶的肯定。在鍍膜過程中需要對蒸發材料進行加熱,將會有大量吸附在金屬或介質中的氣體放出,這樣真空度回急劇下降,將嚴重地影響膜層質量。為了避免鍍膜時大量氣體放出,所以在開鍍膜時,事先需在高真空下將待蒸發的材料進行熱處理。