電子廠廢氣處理多重優惠

常用的有機廢氣處理工藝

低溫等離子體技術  

(1)工作原理

低溫等離子廢氣處理設備里的介質阻擋放電過程中，等離子體內部產生富含極高化學活性的粒子，如電子、離子、臭氧和激發態分子等。理論上有機廢氣與這些具有較高能量的活性基團發生反應，部分會被裂解，1終轉化為二氧化碳和水等物質，從而達到凈化廢氣的目的。

(2)主要問題

現大量使用的小功率低溫等離子體是過去餐廚行業用于油煙處理的,其不適合VOCs處理，且生成副產物和大量的臭氧，會拉弧引燃VOCs等問題。

噪音污染它是接近或超過人類聽覺容許極限的聲音污染。它能影響和改變人體的正常生理狀態，甚至誘發疾病。

當活性炭吸附達到飽和后，對飽和的活性炭床進行脫附再生；通入水蒸汽加熱炭層，VOC被吹脫放出，并與水蒸汽形成蒸汽混合物，一起離開活性炭吸附床，用冷凝器冷卻蒸汽混合物，使蒸汽冷凝為液體。

可用于各種烘道、印鐵制罐、表面噴涂、印刷油墨、電機絕緣處理、皮鞋粘膠等烘干流水線，凈化各工序產生的有機廢氣。

廢氣處理工藝——光催化氧化工藝

光催化氧化工藝簡介

光化學和光催化氧化法是目前研究較多的一種高1級氧化技術。光催化反應即在光的作用下進行的化學反應。分子吸收特定波長的電磁輻射后，是分子達到激發態，然后發生化學反應，產生新的物質，或成為熱反應的引發劑。

光催化氧化工藝原理及流程

VOCs廢氣處理9大工藝、適用范圍、成本控制

Ti02作為一種半導體材料其自身的光電特性決定了它可以用作光催化劑。半導體的能帶結構通常是一個電子填充低能量價帶（VB）和一個空的高能量的導帶（CB），導帶和價帶之間的區域被稱為禁帶。

當照射半導體的光能量等于或大于禁帶寬度時，其價帶電子被激發，跨過禁帶進入導帶，并在價帶中產生相應空穴。電子從價帶激發到導帶，激發后分離的電子和空穴都有一部分進一步進行反應。