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              青島光譜分析儀廠家供應

              【廣告】

              發布時間:2020-11-05 08:19  







              X射線測厚儀結構

              一六 熒光測厚儀 十年以上研發團隊 集研發生產銷售一體

              元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機物

              一次可同時分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

              (一)、外部結構原理圖

              X熒光做鍍層分析時,根據射線是至上而下照射樣品,還是至下而上照射樣品的方式,將X熒光分析儀的外部整體結構分為:上照射和下照射兩種結構。


              (二)、各種外部結構的特點

              1、上照射方式

                 用于照射(激發)的X射線是采用由上往下照射方式的設備稱為上照射儀器。此類設備的Z軸為可移動方式,用于確定射線照射光斑的焦點,確保測量的準確性。

              ①、Z軸的移動方式

                 根據Z軸的移動方式,分為自動和手動兩類;

              自動型的設備完全由程序與自動控制裝置實現,其光斑對焦的重現性與準確度都很高,而且使用非常簡便(一般是與圖像采集系統與控制系統相結合的方式),一般只需要用鼠標在圖像上點擊一下即可定位。涂鍍層測厚儀具有測量誤差小、可靠性高、穩定性好、操作簡便等特點,是控制和保證產品質量必不可少的檢測儀器,廣泛地應用在制造業、金屬加工業、化工業、商檢等檢測領域。此類設備對于測試形狀各異的樣品非常方便,也是目前主流的分析設備類型。

                 手動型設備,一般需要用人觀察圖像的方式,根據參考斑點的位置,手動上下調節Z軸方向,以達到準確對焦的目的。因此,往往在測試對象幾何結構基本上沒有變化的情況下使用比較快捷。



              ②、X、Y軸水平移動方式

              水平移動方式一般分為:無X、Y軸移動裝置;手動X、Y軸移動裝置;電動X、Y軸移動裝置;全程控自動X、Y軸移動裝置。

              這幾類的設備都是根據客戶實際需要而設計的,例如:使用無X、Y軸移動裝置的也很多,結構簡單,樣品水平移動完全靠手動移動,這種設備適合于樣品面積較大,定位比較容易的測試對象。  



              一六儀器 專業測厚儀 多道脈沖分析采集,先進EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

              應用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領域.EFP算法結合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業界難題

              能量色散X熒光光譜儀定義及原理

              X射線熒光光譜儀是一種可以對多元素進行快速同時測定的儀器。雙鍍層:Au/Ni/Cu,Cr/Ni/Cu,Au/Ag/Ni,Sn/Cu/Brass,等等。試樣受X射線照射后,其中各元素原子的內殼層(K,L或M層)電子被激發逐出原子而引起電子躍遷,并發射出該元素的特征X射線熒光。每一種元素都有其特定波長的特征X射線。能散型X射線熒光光譜儀(EDXRF)利用熒光X射線具有不同能量的特點,由探測器本身的能量分辨本領來分辨探測到的X射線。


              江蘇一六儀器  X射線熒光鍍層測厚儀

                    電鍍液測量杯整套含兩個測量杯,可用于多品牌X-RAY測厚儀上使用,高純元素本底提高測量精度和檢出限。電鍍液測試樣品杯,嚴格控制了容量和溢出物的處理,用來測試溶液中金屬離子的濃度;使用方便簡捷,無污染。

              測試膜,又名X射線熒光光譜儀樣品薄膜,邁拉膜,麥拉膜,XRF測試薄膜,XRF樣品膜,樣品薄膜,EDX薄膜,EDX樣品薄膜,ROHS檢測膜,光譜儀樣品薄膜;是應用于X熒光光譜儀的用于保留液體、粉末、泥漿或固體樣本在樣本杯內的物質。無損變焦檢測:可對各種異形凹槽進行無損檢測,凹槽深度范圍0-90mm。專用樣品薄膜是使用方便簡捷,無污染的測試用樣品薄膜,廣泛應用于Elite、fischer、牛津、博曼、先鋒、日立、天瑞等各種品牌的EDX/XRF光譜儀。



              江蘇一六儀器    X射線熒光光譜測厚儀

              產品配置

              X光金屬鍍層測厚儀標準配置為:X射線管,正比計數器﹨半導體探測器,高清攝像頭,高度激光,信號檢測電子電路。

              性能指標

              X射線激發系統 垂直上照式X射線光學系統

              空冷式微聚焦型X射線管,Be窗

              標準靶材:Rh靶;任選靶材:W、Mo、Ag等

              X射線管:管電壓50KV,管電流1mA

              可測元素:CI~U

              檢測器:正比計數管

              樣品觀察:CCD攝像頭

              測定軟件:薄膜FP法、檢量線法

              Z軸程控移動高度 20mm



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