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PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業脈沖激光沉積供應商，我們為您帶來以下信息。

主要用途：　　

用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。　　

系統組成:　　

主要由濺射真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。　　

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。

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PLD脈沖激光沉積系統介紹

PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩定狀態的組成和構造的人工合成新材料。

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