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PVD真空鍍膜設備蒸發系統工作方式

PVD真空鍍膜設備蒸發系統主要指成膜裝置部分，PVD鍍膜機的成膜裝置很多的，PVD鍍膜有電阻加熱、射頻濺射、離子鍍等多種方式。PVD鍍膜電阻蒸發根據其結構和工作原理是目前為止應用多的，PVD鍍膜廣泛的蒸發方式，PVD鍍膜也是應用時間長的蒸發方式。

下面介紹PVD鍍膜電阻加熱和電子槍蒸發的方式：

PVD鍍膜將鎢片做成船狀，然后安裝在兩個電極中間，再熱傳導給PVD鍍膜材料，當鎢舟的熱量高于PVD鍍膜材料熔點的時候，材料就升華或者蒸發了，PVD鍍膜由于操作方便，結構簡單，成本低廉。PVD鍍膜電子槍蒸發是到目前為止應用多的一種蒸發方式，PVD鍍膜可以蒸發任何一種PVD鍍膜料。

將鍍膜材料放在坩堝里面，PVD鍍膜將蒸發源制作成燈絲形狀，PVD鍍膜由于燈絲的材料是鎢，形成了一股電子束，PVD鍍膜由于電子束溫度非常高，PVD鍍膜可以熔化任何鍍膜藥材凝結下來。

至成真空十多年來專業從事各種真空鍍膜應用設備制造，多年來致力于研發和生產真空鍍膜機，以新技術不斷制造出滿足市場需要的真空電鍍設備，為客戶提供定制化的工藝解決方案和機器。

卷繞真空鍍膜機結構設計應該注意的幾個問題

真空鍍膜機使用的行業不一樣，它的機型是不一樣的，那么它的結構設計也是有很大的差別。在設計真空鍍膜機的時，我們都是要考慮到很多因素，比如：要鍍的物件大小，使用的材質，以及它的熱點，和其他的一些細節注意事項等，都會影響真空鍍膜機的結構設計，那么卷繞真空鍍膜機結構設計應該注意那幾個問題呢？下面至成真空小編，為大家詳細介紹一下：

1、提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術的發展，卷繞速度有待提高。

2、帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。

3、帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發生偏斜，嚴重時會造成基材的斷裂，使生產中斷，既影響生產效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。

卷繞鍍膜機真空抽氣系統分上室下室兩組，下室為蒸鍍室，要求真空度高，主泵多為油擴散泵。上室為基材卷繞室，要求真空度較低，為羅茨泵機組或擴散泵一羅茨泵一機械泵組。一般蒸鍍室要達到的真空度為1x10^-3Pa—2×10^-3Pa，而工作壓力為1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個數量級。有時卷繞鍍膜機以增擴泵（油擴散泵的一種）為主泵，它的極限壓力雖然不及油擴散泵，但其抽速范圍向高壓方向延伸一個數量級，非常適宜此類蒸發的鍍膜過程。

新型磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝

磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝在鍍膜行業無處不在，只要說到鍍膜技術，大家都會立刻想到磁控鍍膜工藝，磁控濺射真空鍍膜機也受到了各大廠家的追捧，磁控濺射鍍膜工藝更是受到大家的喜愛，今天至成小編為大家介紹一下磁控濺射鍍膜機鍍膜工藝。

其實從一般的金屬靶材濺射、反應濺射、偏壓濺射等,伴隨著工業需求及新型磁控濺射技術的出現,低壓濺射、高速沉積、自支撐濺射沉積、多重表面工程以及脈沖濺射等新型工藝成為目前該領域的發展趨勢。低壓濺射的關鍵問題是在低壓(一般是指<011Pa)下,電子與氣體原子的碰撞幾率降低,在常規磁控濺射技術中不足以維持靶材表面的輝光放電,導致濺射沉積無法繼續進行。通過優化磁場設計,使得電子空間運動距離延長,非平衡磁控濺射技術可以實現在10-2Pa等級的真空下進行濺射沉積。另外,通過外加電磁場約束電子運動可以實現更低壓強下的濺射沉積。進行高速沉積可以極大的提高工作效率、減少工作氣體消耗以及獲得新型膜層。實現高速沉積主要需要解決的問題是在提高靶材電流密度的同時,不會產生弧光放電;由于功率密度的提高,靶材、襯底的冷卻能力需要相應提高等。目前,已經實現了靶材功率密度超過100W/cm2,沉積速率超過1μm/min。

真空PVD鍍膜涂層工藝冷卻如何進行？

1.高閥關閉，真空計關閉，真空室與泵組隔離；

2.當操作人員按下N2vent按鈕，預先接好的氮氣會通過N2充氣閥充入真空室，當真空室內的壓力達到壓力開關預設的壓力時，N2充氣閥關閉。

3.真空室內充入了大量N2，真空度很低，更加有利于熱傳導，所以降溫速度比不充冷卻N2時快很多，縮短冷卻時間，提高生產效率，實際冷卻時間可由原來的90分鐘縮短為60分鐘。

4.由于氦氣的熱傳導率更高，所以充入冷卻氦氣比氮氣降溫速度更快，但是成本也更高。

5.國外設備快速冷卻程序，通過冷卻氣體的循環冷卻，能縮短冷卻時間50%。

為什么要進行壓升率測試？

真空環境條件是影響終涂層質量重要的因素。鍍膜前，必須進行壓升率測試，以保證真空環境條件滿足鍍膜標準。

怎樣進行壓升率測試？

在我們的自動鍍膜工藝中，壓升率測試是自動進行。當真空室內真空度達到工藝設定的本底真空后，進入壓升率測試步驟。

系統會自動關閉高閥，此時真空室與泵組隔離，真空室內壓力會升高。在一定時間內（一般1分鐘），如果壓力不超過設定的報警值，系統會自動進行下一步程序，進入鍍膜步驟。如果壓力超過設定的報警值，系統會有報警提示，此時，操作人員應按照操作流程，再次進行抽真空和加熱烘烤，然后重復進行壓升率測試，直至壓升率滿足鍍膜條件。