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光學玻璃的抗輻射研究

 耐輻射光學玻璃中引入了CeO2，在高能γ射線輻照后，能俘獲電子，不使玻璃內部產生色心,且因Ce和Ce的吸收帶在紫外區。光學系統新的改革往往向光學玻璃提出新的要求，因而推動了光學玻璃的發展，同樣，新品種玻璃的試制成功也也往往反過來促進了光學儀器的發展。當CeO2含量過高時，在紫外、紅外的吸收帶延伸到可見光區，使可見光的藍色的區域吸收增加，導致玻璃呈黃色。同時，也會因玻璃中其他成分的影響而加深顏色，所以CeO2的含量不能太高，在K509中CeO2的含量約為0.4%～0.5%，在K709中CeO2約為1%。

常見的光學玻璃清洗

洗滌液的制備及使用注意事項洗滌液簡稱洗液，根據不同的要求有各種不同的洗液。將較常用的幾種介紹如下。

強酸氧化劑洗液強酸氧化劑洗液是用重鉻酸甲（K2Cr2O7）和濃H2SO4配成。K2Cr2O7在酸性溶液中，有很強的氧化能力， 對玻璃儀器又及少有侵蝕作用。各公司所謂AD玻璃、ED玻璃、UD玻璃，往往就是這一類代用品。所以這種洗液在實驗室內使用廣泛。配制濃度各有不同，從5~12%的各種濃度都有。配制方法大致相同：取一定量的K2Cr2O7（工業品即可），先用約1~2倍的水加熱溶解，稍冷后，將工業品濃H2SO4所需體積數徐徐加入K2Cr2O7不溶液中（千萬不能將水或溶液加入H2SO4中），邊倒邊用玻璃棒攪拌，并注意不要濺出，混合均勻，俟冷卻后，裝入洗液瓶備用。新配制的洗液為紅褐色，氧化能力很強。當洗液用久后變為黑綠色，即說明洗液無氧化洗滌力。

例如,配制12%的洗液500mL。取60克工業品K2Cr2O7置于100mL水中（加水量不是固定不變的，以能溶解為度），加熱溶解，冷卻，徐徐加入濃H2SO4３４０mL，邊加邊攪拌，冷后裝瓶備用。

這種洗液在使用時要切實注意不能濺到身上，以防“燒”破衣服和損傷皮膚。對紫外、可見、紅外區特定波長有選擇吸收和透過性能，按光譜特性分為選擇性吸收型、截止型和中性灰3類。洗液倒入要洗的儀器中，應使儀器周壁全浸洗后稍停一會再倒回洗液瓶。第—次用少量水沖洗剛浸洗過的儀器后，廢水不要倒在水池里和下水道里，長久會腐蝕水池和下水道，應倒在廢液缸中，缸滿后倒在垃圾里，如果無廢液缸，倒入水池時，要邊倒邊用大量的水沖洗。

影響光學玻璃清洗的因素有哪些呢？下面具體看看：

A，清洗工藝的技術關鍵：光學玻璃經過清洗后能否達到表面不留任何油污，污跡，表面光滑，水膜完好！

B，影響清洗后光學玻璃質量的因素及相應的解決方法：

（1）玻璃本身的質量螺旋送料機及被污染的情況，主要為：表面有霉點，氣泡，劃傷等，在機械處理中，如：研磨，搽試，測應力時，人為導致的污染情況不一；

（2）清洗劑的選擇其能動及溫度，水質；我們采用非ODS的水類堿性清洗劑，主要由 水，堿，表面活性劑，防銹材料組成，化學式C3H8，具有側鏈的環狀烯烴，具有較強的 溶油能力；特點：低毒，不燃，清洗成本低等特點；

（3）溶液的濃度直接影響清洗度的大小； 通常清洗液的PH值一般在8.5-12之間，若PH值大于箱式變壓站10，側表面活性物質作用要削弱，當PH 值大于12時，側清潔度下降。

（4）溶液溫度及浸泡時間也同高溫循環風機樣影響去污效率； 當溫度上升，溶液的反應速度也上升，污染物的粘度下降，便于污染物脫離，但溶液的穩定 度下降。若溫度過高，會在玻璃邊角上產生花紋。

（5）在清洗過程中，還應注意必須使用純水或去離子水，若使用自來水等硬水側很難除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na離子等雜質會在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜，污染玻璃；

（6）光學玻璃經清洗后需漂洗，漂洗后的清潔度，除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關外，還與漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，溫度及循環使用的純水是否干凈有關；

（7）清洗環境的清潔程度；

（8）清洗后的干燥工藝及溫度： 應盡量保證玻璃垂直，可在玻璃下墊陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水印；烘箱溫度控制在70度左右，時間在20分鐘左右。若溫度過高，會在玻璃邊角上產生花紋。

設計光學系統時應遵循的原則：

1. 光學系統與目標、大氣窗口、探測器之間的光譜匹配。

2. 接收口徑、相對孔徑盡可能大，以保證系統有高的靈敏度。

3. 系統應對噪聲有較強的抑制能力。

4. 系統的形式和組成應有利于發揮探測器的效能。

5. 系統和組成元件力求簡單，減少能量損失。

6. 根據不同要求，選擇合適的元件組成所需的系統。