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電鍍、鈍化、退鍍等電鍍作業中常用的槽液

電鍍、鈍化、退鍍等電鍍作業中常用的槽液經長期使用后或積累了許多其他的金屬離子，或由于某些添加劑的破壞，或某些有效成分比例失調等原因而影響鍍層或鈍化層的質量。因此許多工廠為控制這些槽液中的雜質在工藝許可的范圍內，將槽液廢棄一部分，補充新溶液，也有的工廠將這些失效的槽液全部棄去。這些廢棄的各種濃度液一般重金屬離子濃度都很高，積累的雜質也很多，不僅污染物的種類不同，而且主要污染物的濃度、其他金屬雜質離子的濃度以及溶液介質也都往往有較大的差異。這些差異決定了這些廢水的處理技術上的多樣性和工藝上的特殊性。

化學鍍鎳已進入發展成熟期

化學鍍鎳已進入發展成熟期，其目前的現狀可概括為：技術成熟、性能穩定、功能多樣、用途廣泛。用化學鍍鎳沉積的鍍層，有一些不同于電沉積層的特性①以次磷酸鈉為還原劑時，由于有磷析出，發生磷與鎳的共沉積，所以化學鍍鎳層是磷呈彌散態的鎳磷合金鍍層，鍍層中磷的質量分數為1％～l5％，控制磷含量得到的鎳磷鍍層致密、無孔，耐蝕性遠優于電鍍鎳。以硼氫化物或氨基為還原劑時，化學鍍鎳層是鎳硼合金鍍層，硼的含量為1％～7％。只有以肼作還原劑得到的鍍層才是純鎳層，含鎳量可達到99．5％以上。

鍍后除氫。由于鍍鉻的電流效率低，在陰極上大量析出氫氣，對于易析氫的鋼鐵部件，應在鍍后180～200℃的溫度，除氫3H，以避免發生氫脆。2、鉻霧抑制。鍍鉻過程中，由于使用不溶性陽極，陰極電流效率又很低，致使大量氫氣和氧氣析出，當氣體逸出液面時，帶有大量的鉻酸，形成鉻霧造成嚴重的污染。目前抑制鉻霧的方法有兩種。一種是將泡沫塑料碎塊或碎片放入鍍液的液面上，可阻滯鉻霧的逸出，已淘汰。另一種是加入泡沫，降低鍍液的表面張力，產生穩定的泡沫層，覆蓋在鍍液表面，當帶有鉻酸的氫氣和氧氣析出時，與表面的泡沫層相碰撞，無數微小的鉻酸霧結合成較大的霧滴，由于重力作用，當上升一定高度時將重回鍍液，而氫氣和氧氣繼續上升，直至離開液面，這樣實現氣體的排除和對鉻霧的有效抑制。這是現在的主流。