福州車(chē)間潔凈室高性?xún)r(jià)比的選擇

單向流潔凈室一般有兩種類(lèi)型，即水平流和垂直流。在水平流系統(tǒng)中，氣流是從一面墻流向另一面墻。在垂直流系統(tǒng)中，氣流是從吊頂流向地面。對(duì)要求潔凈室的懸浮粒子濃度或微生物濃度更低的場(chǎng)合，就使用單向氣流。以前稱(chēng)這類(lèi)潔凈室為“層流”潔凈室。單向流和層流的名稱(chēng)均說(shuō)明了其氣流的狀況：氣流以一個(gè)方向流動(dòng)（或是垂直的或是水平的），并以一般是0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分鐘至100英尺/分鐘）的均速流過(guò)整個(gè)空間。由滿(mǎn)布潔凈室吊頂?shù)倪^(guò)濾器向室內(nèi)送風(fēng)。氣流有如一個(gè)空氣活塞，向下流經(jīng)室內(nèi)，帶走污染物，然后從地面排出。又在與外部的一些新鮮空氣混合后，再循環(huán)至過(guò)濾器。人員和工藝所產(chǎn)生的懸浮污染可立即被這種空氣清除掉，而紊流通風(fēng)系統(tǒng)采用的是混合與稀釋原理。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。在一間沒(méi)有任何障礙物的空房間，單向流用比前面提到的低得多的風(fēng)速，就可以很快將污染物清除。

潔凈室中的氣流速度規(guī)定這里要討論的氣流速度是指潔凈室內(nèi)的氣流速度，在其他潔凈空間中的氣流速度在討論具體設(shè)備時(shí)再說(shuō)明。對(duì)于亂流潔凈室 由于主主要靠空氣的稀釋作用來(lái)減輕室內(nèi)污染的程度，所以主要用換氣次數(shù)這一概念，而不直接用速度的概念，不過(guò)對(duì)室內(nèi)氣流速度也有如下要求；在空間設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)分考慮產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程和潔凈室凈化工程內(nèi)各種管線、物流運(yùn)輸?shù)暮侠戆才拧?1)送風(fēng)口出口氣流速度不宜太大，和單純空調(diào)房間相比，要求速度衰減更快，擴(kuò)散角度更大。(2)吹過(guò)水平面的氣流速度（例如側(cè)送時(shí)回流速度）不宜太大，以免吹起表面微粒重返氣流，而造成再污染，這一速度一般不宜大干0.2m/s。

經(jīng)濟(jì)和科技發(fā)達(dá)的國(guó)家和地區(qū)都有自己的空氣潔凈標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)，都規(guī)定了有關(guān)的潔凈度等級(jí)，例如美國(guó)、日本、西歐、北歐、俄羅斯等。我國(guó)于1984年頒布《潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范》（GBJ73-84），1996年該規(guī)范進(jìn)行了較大的修改，1990年頒布《潔凈室施工及驗(yàn)收規(guī)范》（JGJ71-90）以指導(dǎo)施工和驗(yàn)收的重要文件。該規(guī)范在重新修訂中。凡反應(yīng)水平屬于很吵鬧和極吵鬧者，即為高煩惱，高煩惱人數(shù)在總?cè)藬?shù)中的百分比2．對(duì)工作效率的影響這主要看三方面的反應(yīng)水平，這三個(gè)方面是：集中精神，動(dòng)作準(zhǔn)確性，工作速度。GBJ73-84規(guī)定的潔凈度等級(jí)等級(jí)每立方米（升）空氣中》0.5μm塵粒數(shù)每立方米（升）空氣中》5μm塵粒數(shù)100《35*100（〈3.5〉　1000《35*1000（〈35〉《250（〈0.25〉10000《35*10000（〈350〉《2500（〈2.5〉100000《35*100000（〈3500〉《25000（〈25〉

隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，工業(yè)產(chǎn)品的更新?lián)Q代很快，人們對(duì)生活質(zhì)量要求也越來(lái)越高，工業(yè)潔凈室凈化工程、生物潔凈室凈化工程的建造日新月異，因此潔凈室凈化工程設(shè)計(jì)本身便具有高新技術(shù)、技術(shù)密集和資金密集的特點(diǎn)，為了提高潔凈室凈化工程建成后的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益，在進(jìn)行潔凈室凈化工程設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)設(shè)法盡可能地考慮一定的靈活性，以便使建成后的潔凈室凈化工程能隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展*可以方便地進(jìn)行技術(shù)改造。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。