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發布時間:2021-04-07 18:59  





細銅線的絕緣漆在嚴格的繞線操作時會被損壞,尤其是對較小的環形和圓筒型器件需要用一個涂層,它不僅能提供絕緣而且也能消除摩擦引起的繞線時對線的損傷。Parylene高的絕緣強度和它的干膜潤滑性能使它完全能適合于這種應用。
繞線窗空間
在使用NYLON(尼龍)或PTFE(聚四氟乙烯)涂層時由于增加了這些涂層繞線窗空間減小了,同時由于表面張力使涂層
在棱刃和角邊處很薄對防摩擦作用不大。Parylene涂層較薄且厚度均勻使繞線器件能保持大的繞線窗,這種隨之伴有的大繞線空間使它可用作有較好性能參數的有涂層產品。
精密模具硬質涂層設備真空鍍膜機是工業化生產理想設備。其大特點是能對各種金屬及非金屬進行表面鍍膜,可鍍制Au、Cu、Al、Cr、Ni,不銹鋼等高溫、低溫耐蝕膜,裝飾保護膜,又可鍍制TiC等硬膜,在機械、輕工、電子、等領域有著廣泛的應用。膜層表面光滑致密,無公害,提高硬度、耐磨損、防腐蝕、美化裝飾,
可通過鹽霧測試、冷熱沖擊測試、酒精測試、人體行業測試、RCA測試、鉛筆硬度測試、折彎測試、百格測試等
該設備離化率高、成膜速率快、低溫等特性,可根據用戶要求設計制造非標設備
真空鍍膜主要分為一下幾類:
蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。
薄膜厚度可由數百埃至數微米。
對于大面積鍍膜,常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。
濺射鍍膜:用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。濺射現象于1870年開始用于鍍膜技術,1930年以后由于提高了沉積速率而逐漸用于工業生產。常用的二極濺射設備。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統抽至高真空后充入 10-1帕的氣體(通常為氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產生輝光放電。