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              真空箱式氦檢漏服務公司服務為先“本信息長期有效”

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              發布時間:2020-07-19 14:59  






              真空法氦質譜檢漏

              采用真空法檢漏時,需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產品內部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產品外表面施氦氣,當被檢產品表面有漏孔時,氦氣就會通過漏孔進入被檢產品內部,再進入氦質譜檢漏儀,從而實現被檢產品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產品外表面噴吹氦氣,可以實現漏孔的; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產品全部罩起來,在罩內充滿一定濃度的氦氣,可以實現被檢產品總漏率的測量。如果試漏方向與使用中所受壓力方向相同,將易于找到實際的漏孔而不至于受到報警的干擾。

              真空法的優點是檢測靈敏度高,可以,能實現大容器或復雜結構產品的檢漏。

              真空法的缺點是只能實現一個大氣壓差的漏率檢測,不能準確反映帶壓被檢產品的真實泄漏狀態。

              真空法的檢測標準主要有QJ3123-2000《氦質譜真空檢漏方法》、GB /T 15823-2009《氦泄漏檢驗》,主要應用于真空密封性能要求,但不帶壓工作的產品,如空間活動部件、液氫槽車、環境模擬設備等。





              正壓法氦質譜檢漏

              采用正壓法檢漏時,需對被檢產品內部密封室充入高于一個大氣壓力的氦氣,當被檢產品表面有漏孔時,氦氣就會通孔漏孔進入被檢外表面的周圍大氣環境中,再采用吸槍的方式檢測被檢產品周圍大氣環境中的氦氣濃度增量,從而實現被檢產品泄漏測量。按照收集氦氣方式的不同,又可以將正壓法分為正壓吸槍法和正壓累積法。其中正壓吸槍法采用檢漏儀吸槍對被檢產品外表面進行掃描探查,可以實現漏孔的; 正壓累積法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產品全部罩起來,采用檢漏儀吸槍測量一定時間段前后的氦罩內氦氣濃度變化量,實現被檢產品總漏率的測量。再者漏孔離質譜室的距離檢漏儀反應時間也不同,所以噴氦應先從靠近檢漏儀的一側開始由近至遠來進行。

              正壓法的優點是不需要輔助的真空系統,可以,實現任何工作壓力下的檢測。

              正壓法的缺點是檢測靈敏度較低,檢測結果不確定度大,受測量環境條件影響大。

              正壓法的檢測標準主要有QJ3089-1999《氦質譜正壓檢漏方法》、QJ2862-1996《壓力容器焊縫氦質譜吸槍罩盒檢漏試驗方法》,主要應用于大容積高壓密閉容器產品的檢漏,如高壓氦氣瓶、艙門檢漏儀等。





              為試漏區配備足夠的通風條件

              檢漏氣體氦/ 氫如果泄露,就會像氣球一樣飛到試漏區的室頂,并逐漸漂滿整個試漏區。縱然所有連接件是完全密閉的,但在連接或拆卸的過程中難免會釋放少量的檢漏氣體。因此,為試漏區配備足夠的通風條件是非常重要的。由于兩種檢漏氣體均有向上運動的趨向,建議從底部送入新鮮空氣和從頂部排放氣體至室外。正壓累積法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產品全部罩起來,采用檢漏儀吸槍測量一定時間段前后的氦罩內氦氣濃度變化量,實現被檢產品總漏率的測量。





              氦氣在在半導體中的檢漏作用

              為了防止半導體器件、集成電路等元器件的表面因玷污水汽等雜質而導致性能退化,就必須采用管殼來密封。但是在管殼的封接處或者引線接頭處往往會因為各種原因而產生一些肉眼難以發現的小洞,所以在元器件封裝之后,就需要采取某些方法來檢測這些小洞的存在與否。 氦氣檢漏就是采用氦氣來檢查電子元器件封裝管殼上的小漏洞。因為氦原子的尺寸很小,容易穿過小洞而進入到管殼內部,所以這種檢測方法能夠檢測出尺寸很小的小洞(即能夠檢測出漏氣速率約為10?11~10?12cm3/sec的小洞),靈敏度可與性檢漏方法匹敵,但要比性檢漏方法簡便。充注檢漏氣體前先檢查大漏在充注檢漏氣體前應快速測試是否存在大漏。

              氦氣檢漏試驗的方法:首先把封裝好的元器件放入充滿氦氣的容器中,并加壓,讓氦氣通過小洞而進入管殼中;然后取出,并用壓縮空氣吹去管殼表面的殘留氦氣;接著采用質譜儀來檢測管殼外表所漏出的氦氣。





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