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在制作鋁蝕刻標牌中,表面拋光怎樣才不傷到底色

1）蝕刻深度不能太淺；

2）填的漆料不能太稠，不能失去流動性。太稠的油漆容易高出牌面，更容易被拋光傷及。

3）填漆后再拋光，要用烤漆，如氨基烘漆（烘烤115－125度），也可用加固化劑的漆。普通硝基漆易拋掉。

4）填漆后要有足夠的干燥固化時間。

5）拋光時用力要均勻，盡量不要橫向豎向亂拋。

6）還有一個非常有效的方法就是預先拋光。一次拋得就比較亮了，在網印、腐蝕、清洗、填漆過程再稍加注意不要劃傷版面，那么后一次拋光就容易得多。一些精檔的金屬填漆標牌都要拋兩遍光。

什么是蝕刻標牌？

蝕刻標牌是指金屬標牌的圖片與金屬表面不在同一個表面，并以蝕刻的方式而制成。它可以是保留圖文，將圖文以外的區域蝕刻成下凹，稱為陽文蝕刻，或反蝕刻；也可以保留原材料的表面，使圖文區域蝕刻成下凹，稱為陰文蝕刻。

蝕刻標牌有圖文的性，常用于機械設備標牌和一些使用環境惡劣而需要作耐久性標識的場合。

蝕刻標牌是傳統性的標牌。減少污染的問題銅對水的污染是印制電路生產中普遍存在的問題﹐而氨堿蝕刻液的使用更加重了這個問題。一直業內大家都習慣稱它為腐蝕標牌。有人說叫它腐蝕標牌不是很妥切，因為腐蝕一詞多指金屬在自然條件下所遭受的破壞行為的一種結果；而蝕刻則是一種有意識、有選擇性的，為達到預期目的而實施的一種刻意行為。但不管怎樣，這種工藝過程，卻經歷了二十多年的發展，直到目前為止，還不能完全取消這種傳統工藝。

負載（Loading）-- 蝕刻速率依賴于可蝕刻表面數量，可在宏觀或微觀尺寸下。 縱橫比決定蝕刻（Aspect Ratio Dependent Etching/ARDE）--蝕刻速率決定于縱橫比。主要查采用掩膜、蝕刻后處理三步進行加工制做而成的凸字金屬標牌或凹字金屬標牌。 終點（Endpoint）-- 在一個蝕刻過程中，平均膜厚被蝕刻干凈時的時間點。 光刻膠（Photo-resist）-- 作為掩膜用來圖形轉移的光敏材料。 分辨率（Resolution）-- 用于測試光學系統把相鄰的目標形成分離圖像的能力。 焦深 (Depth of focus) – 在焦平面上目標能形成影像的縱向距。 關鍵尺寸（Critical dimensi-CD）-- 一個特征圖形的尺寸，包括線寬、間隙、或者 關聯尺寸。