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       建筑玻璃有透光和隔熱兩個(gè)基本功能。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量，這對(duì)采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對(duì)于空間紅外輻射，普通玻璃雖能阻止室內(nèi)的熱量直接透過室外，但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會(huì)造成很大的損失。隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求。而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補(bǔ)了普通玻璃在這一方面的不足。

       生活中我們會(huì)看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經(jīng)過派瑞林鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。金黃色的是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN 涂層。TiN是代應(yīng)用廣泛的硬質(zhì)層材料。黑色的是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。鈷銅色的是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。

        不導(dǎo)電（NCVM）鍍膜設(shè)備NCVM又稱不連續(xù)鍍膜技術(shù)或不導(dǎo)電電鍍技術(shù)，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術(shù)。真空電鍍，簡(jiǎn)稱 vm， 是vacuum metalization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運(yùn)用化學(xué)和物理等特定手段進(jìn)行有機(jī)轉(zhuǎn)換，使金屬轉(zhuǎn)換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。

        進(jìn)口不導(dǎo)電（NCVM）鍍膜設(shè)備應(yīng)用于塑料電子產(chǎn)品:手機(jī)外殼、手機(jī)按鍵、電腦、數(shù)碼、電子通信等的表面鍍制不導(dǎo)電膜（NCVM）。大功率蒸發(fā)系統(tǒng)，可控硅控制，重復(fù)性、穩(wěn)定性高,獨(dú)有鍍透電極設(shè)計(jì)，配置石英晶振，可控制任何膜層厚度,擁有的工件架技術(shù)，轉(zhuǎn)速平穩(wěn)可調(diào)，產(chǎn)量大且良品率高。

       與化學(xué)吸附自限制過程不同，順次反應(yīng)自限制原子層沉積過程是通過活性前驅(qū)體物質(zhì)與活性基體材料表面化學(xué)反應(yīng)來驅(qū)動(dòng)的。這樣得到的沉積薄膜是由于前驅(qū)體與基體材料間的化學(xué)反應(yīng)形成的。圖a和b分別給出了這兩種自限制反應(yīng)過程的示意圖。由圖可知，化學(xué)吸附自限制過程的是由吸附前驅(qū)體1（ML2）與前驅(qū)體2（AN2）直接反應(yīng)生成MA原子層（薄膜構(gòu)成），主要反應(yīng)可以以方程式⑴表示。對(duì)于順次反應(yīng)自限制過程首先是活化劑（AN）活化基體材料表面；然后注入的前驅(qū)體1（ML2）在活化的基體材料表面反應(yīng)形成吸附中間體（AML），這可以用反應(yīng)方程式⑵表示。反應(yīng)⑵隨著活化劑AN的反應(yīng)消耗而自動(dòng)終止，具有自限制性。當(dāng)沉積反應(yīng)前驅(qū)體2（AN2）注入反應(yīng)器后，就會(huì)與上述的吸附中間體反應(yīng)并生成沉積原子層。

       由于PVD涂層能提供更好的邊緣保持力，防止氧化和腐蝕，在切削過程中保持清晰，不會(huì)與骨骼、組織或體液發(fā)生反應(yīng)，故而，越來越多都用于，例如鋒利的手術(shù)器械、針頭、鉆頭、、各種裝置組件以及應(yīng)用的“磨損”部件。PVD功能性硬涂層(如DLC，TIN)已廣泛應(yīng)用在不銹鋼零部件上，作用是可減少摩損和延長(zhǎng)零部件壽命，但因?yàn)橥繉颖旧碛腥毕莺停允褂迷谝恍?nbsp; 耐腐蝕要求高的環(huán)境下，效果不佳。PVD功能膜配合納米透明膜是目前更理想的解決方案：PVD涂層提供耐磨性，納米透明膜提供耐腐蝕性。

       PVD工藝一般只是直線沉積，對(duì)形狀復(fù)雜，縱橫比高或有深孔的工件是難以得到均勻的厚度。納米透明膜可解決這問題，無論形狀多復(fù)雜，每個(gè)位置的膜厚都是一致的，沒有大偏差。