武漢磁控濺射鍍膜設備報價

中頻磁控濺射鍍膜設備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現象；減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩定性，同時，提高了介質膜的沉積速率數倍。

新研發平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

鍍膜行業發展的趨勢

當今鍍膜行業制作方式主要有兩種，一種是化學氣象沉積，一種是化學鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學鍍膜是把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應所需其他氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜的過程。在化學薄膜的過程中，容易產生溶液污染，如果鍍層表面雜質多，鍍出來的效果不好。

化學鍍膜需要的反應溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時硬質合金，雖然能經受高溫，但在化學鍍膜制作的環境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質合金上鍍TiN，晶體擴散出來的碳會與溶液發生反應形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機很好的解決了化學鍍膜產生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電技術，利用其他放電是靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及反應產物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題，不會產生有毒或污染物質，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質合金刀具可使其壽命提高2~10倍。

裝飾性真空鍍膜設備涂層的作用和要求

裝飾性真空鍍膜設備涂層的作用和要求 裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產品的不同技術要求，可施涂底涂層和面涂層，或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護涂層等。這些涂層的主要作用是： 提高膜層的結合力。采用相同的鍍膜方法，在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜，可提高膜層的結合力。 降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填補鍍件表面的缺陷，使鍍件表面達鏡面平整度。 能保護金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm，膜層的耐磨性和抗變色能力較差，施涂面涂層后，鍍膜層與外界不直接接觸，對鍍膜層能起保護作用。

鍍膜機的鍍膜方式及遇到的問題

鍍膜機的鍍膜方式及遇到的問題 鍍膜機是在高真空狀態下通過高溫金屬熔體鋁蒸發，鋁蒸鍍到塑料薄膜的表面上，使金屬設備表面的塑料薄膜。真空鍍膜機技術作為一種特定的膜技術，已廣泛應用于實際生產和生活。 鍍膜機涂布方法：離子鍍，濺射沉積（1）鍍膜機：快速成膜0.1—50／min，設備比較簡單，容易操作；純度高，制備的薄膜；薄膜生長機制比較簡單。（2）薄膜的附著力較小，結晶過程是不的，重復性不夠好。 鍍膜機鍍產品脫膜是怎么回事？一、.產品的表面清潔度是不夠的，離子源清潔放大的長時間。二、用清洗劑清洗，或更換清潔劑，鍍膜機建議使用純凈水試驗。三、工藝參數的變化是否可以在薄膜的厚度和電流進行調整。