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              國產icp光譜儀報價價格行情,鋼研納克

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              發布時間:2020-11-08 09:21  






              ICP光譜儀

              目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型,其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術水平,它們以光電倍增管為檢測器,技術上非常成熟,但也較落后,其中多道型已幾乎退出歷史舞臺,單道掃描型以其合適的價格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當今ICP的新技術水準,它以CID或CCD(SCD)半導體器件為檢測器;中階梯光柵結合棱鏡(或平面光柵)構成二維、高分辯率、高能量色散系統,能同時獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經近十年的不斷完善和發展,目前已成為ICP光譜儀的主流。



              鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

              1.   光路形式:Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

              2.   光室恒溫:(30±0.2)℃      

              3.   光柵類型:離子刻蝕全息平面光柵

              4.   分辨率:不大于0.007nm  

              5.   刻線密度:3600g/mm          

              6.   高頻發生器震蕩頻率:40.68MHz   功率穩定度:0.1%(長期25℃典型值)

              7.   震蕩類型:自激式        

              8.   進樣方式:蠕動泵進樣

              配有多種霧室(旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室)

              9.   霧1化器:同心霧化1器

              10. 重復性:RSD ≤1.0%

              11. 穩定性:RSD ≤2.0%(2小時)

              12. 冷卻氣:10-20L/min

              13. 輔助氣:0-1.5 L/min

              14. 載氣:0.4-1L/min

              15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(長×寬×高)

              16. 重量:240公斤




              應用領域

              Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

              售后服務保障

              售后服務工程師出自生產線、技術力量無法比較的

              多年的國際合作經驗打造了完善的售后服務體系

              自主知識產權產品使儀器的運行成本特別是備件成本大幅降低




              鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀

              2015年10月14日,中國分析測試協會組織業內專家在北京對鋼研納克檢測技術有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項成果進行了鑒定。本次鑒定專家組成員包括:清華大學張新榮、中國分析測試協會張渝英、中國分析測試協會汪正范研究員、科學儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學、北京科技大學劉杰民。鋼研納克檢測技術有限公司賈云海總經理、技術中心沈學靜、項目負責人及項目骨干出席本次專家鑒定會。

              本次鑒定會由鑒定專家組組長張新榮主持,項目組向專家組成員詳細匯報了成果情況,專家組審議了成果研制報告、成果查新報告、檢驗報告和用戶報告等項目鑒定資料,并觀看了儀器現場操作演示,進行了質詢。在此基礎上,專家們進行了認真討論,一致同意并通過了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。

              鑒定結論如下:

              “Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術指標達到:波長范圍:165~900nm;200nm處分辨率0.007nm;自主研發固態射頻發生器,功率范圍800W~1600W,連續1瓦可調,功率穩定性優于0.1%,具有自動匹配調諧功能;軟件一鍵點火,電路具有全自動保護功能;具有儀器參數自動優化功能;具有激光剝蝕進樣系統接口,可配備有機進樣系統、高鹽和耐進樣系統,可使用有機進樣系統直接測試油品。具有(1)成功攻克了固態射頻發生器、高分辨二維全譜光譜系統等關鍵技術;(2)自主研發的高分辨率二維分光系統,無需切換光路,一次曝光即可獲取全部譜線數據;(3)建立了多種樣品分析的方法數據庫等創新點。該儀器技術指標已達到國內同類產品水平,已實現銷售,具有良好市場前景。



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