北京偏光顯微鏡批發(fā)品牌企業(yè)「多圖」

顯微鏡放大倍數(shù)和分辨率

顯微鏡放大倍數(shù)和分辨率受到很多因素影響，如透鏡質(zhì)量、機(jī)械裝配質(zhì)量等多方面因素，都可以影響顯微鏡的分辨率和放大倍數(shù)。但即便透鏡和機(jī)械裝置做得再，終顯微鏡放大倍數(shù)和分辨率也不是無(wú)限的，終受到入射光源波長(zhǎng)限制。 這是因?yàn)槿擞^察事物完全依賴光，也就是說(shuō)物體必須發(fā)出光或者得到光的照射，人眼才能夠看到，不管是光學(xué)顯微鏡還是電子顯微鏡，都必須有一個(gè)光源入射，被觀測(cè)物體才能夠被“看到”。當(dāng)被觀測(cè)物體小于入射波段的一半時(shí)，就不會(huì)被觀測(cè)到。

顯微鏡測(cè)量模式及比對(duì)模式,可搭配GSM

顯微鏡測(cè)量模式：具有測(cè)量模式及比對(duì)模式，可搭配GSM-C289A軟件進(jìn)行分析。 1、繪圖——可以在計(jì)算機(jī)顯示器上很方便地觀察金相圖像，并對(duì)金相圖譜進(jìn)行分析，評(píng)級(jí)等。結(jié)合光學(xué)影像量測(cè)系統(tǒng)，對(duì)工件進(jìn)行高度的光學(xué)量測(cè)，并可以以EXCEL、WORD、TXT格式輸出做數(shù)據(jù)分析，并可以用DFX格式輸出在CAD中進(jìn)行工程圖的設(shè)計(jì)。 2、 測(cè)量——可測(cè)量平面上的任何幾何圖形之尺寸（角度、長(zhǎng)度、直徑、半徑、點(diǎn)到線的距離、圓的偏心、兩圓間距等） 3、 標(biāo)注——可在實(shí)時(shí)影像中的實(shí)際工件上標(biāo)注各種幾何尺寸。 4、 拍照——可拍下實(shí)物照片，包括所標(biāo)注的尺寸。

粗磨粗磨的目的主要有以下三點(diǎn)

粗磨 粗磨的目的主要有以下三點(diǎn)： ?修整 有些試樣，例如用錘擊法敲下來(lái)的試樣，形狀很不規(guī)則，必須經(jīng)過(guò)粗磨，修整為規(guī)則形狀的試樣; ?磨平 無(wú)論用什么方法取樣，切口往往不十分平滑，為了將觀察面磨平，同時(shí)去掉切割時(shí)產(chǎn)生的變形層，必須進(jìn)行粗磨; ?倒角 在不影響觀察目的的前提下，需將試樣上的棱角磨掉，以免劃破砂紙和拋光織物。

拋光的目的是去除細(xì)磨后遺留在磨面上的細(xì)微磨痕

拋光 拋光的目的是去除細(xì)磨后遺留在磨面上的細(xì)微磨痕，得到光亮無(wú)痕的鏡面。拋光的方法有機(jī)械拋光、電解拋光和化學(xué)拋光三種，其中的是機(jī)械拋光。機(jī)械拋光在拋光機(jī)上進(jìn)行，將拋光織物(粗拋常用帆布，精拋常用毛呢)用水浸濕、鋪平、繃緊并固定在拋光盤(pán)上。 啟動(dòng)開(kāi)關(guān)使拋光盤(pán)逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，將適量的拋光液(氧化鋁、氧化鉻或氧化鐵拋光粉加水的懸浮液)滴灑在盤(pán)上即可進(jìn)行拋光，拋光時(shí)應(yīng)注意： ?試樣沿盤(pán)的徑向往返緩慢移動(dòng)，同時(shí)逆拋光盤(pán)轉(zhuǎn)向自轉(zhuǎn)，待拋光快結(jié)束時(shí)作短時(shí)定位輕拋。 ?)在拋光過(guò)程中，要經(jīng)常滴加適量的拋光液或清水，以保持拋光盤(pán)的濕度，如發(fā)現(xiàn)拋光盤(pán)過(guò)臟或帶有粗大顆粒時(shí)，必須將其沖刷干凈后再繼續(xù)使用。 ?拋光時(shí)間應(yīng)盡量縮短，不可過(guò)長(zhǎng)，為滿足這一要求可分粗拋和精拋兩步進(jìn)行。 ④拋有色金屬(如銅、鋁及其合金等)時(shí)，在拋光盤(pán)上涂少許肥皂或滴加適量的肥皂水。