天津銅鍍鎳加工價格合理「多圖」

電鍍原理和設備構造的簡單講解

電鍍原理：借助外界直流電的作用，在溶液中進行電解反應，使導電體的表面沉積一金屬或合金層的方法，稱為電鍍。通過對電鍍原理和設備構造的簡單講解，使大家對電鍍相關知識有初步的了解。對設備結構及流程進行說明，同時將各部品的結構、及工作原理進行講解，并指出可能影響產品質量的重要結構及動作部分。為現場生產中更好地理解并控制重要品質項目提供幫助。

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發金屬或化合物的方法

真空電鍍是一種在高真空中加熱和蒸發金屬或化合物的方法，通過將蒸發的原子或分子應用于要電鍍的物體，在表面上形成金屬或化合物的薄膜。在這里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。工業應用包括裝飾、包裝紙等，將鋁沉積在金屬光澤上，作為電氣應用，用于電阻和電容器。如果地基不釋放氣體，它可以使用非金屬，而不僅僅是金屬。

此外，真空電鍍的沉積方法包括PVD（物理氣相沉積）和CVD法（化學氣相沉積）。PVD 使用熱和等離子體能量蒸發固體材料，并將其沉積在基板上。 CVD是一種利用熱和等離子體等能量的氣體，包括薄膜和元素，通過激發和分解在基板表面吸附和形成薄膜。

磷化工藝參數對磷化效果的影響

磷化工藝參數對磷化效果的影響包括一下幾方面。

1、總酸度—總酸度過低、磷化必受影響，因為總酸度是反映磷化液濃度的一項指標。控制總酸度的意義在于使磷化液中成膜離子濃度保持在必要的范圍內。

2、游離酸度—游離酸度過高、過低均會產生不良影響。過高不能成膜，易出現黃銹；過低磷化液的穩定性受威脅，生成額外的殘渣。

3、酸比—酸比即指總酸度與游離酸度的比值。一般的說酸比都在 5~30 的范圍內。酸比較小的配方，游離酸度高，成膜速度慢，磷化時間長，所需溫度高。酸比較大的配方，成膜速度快，磷化時間短，所需溫度低。因此必須控制好酸比。