手機殼真空鍍膜擇優推薦

真空鍍膜手機殼真空鍍膜

真空鍍膜的優點

TiN

中文名:氮化鈦;

顏色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系數:0.23VSNi;

zui高工作溫度:580℃;

優點:增加表面硬度、減少摩擦力;可低溫涂層，適合低溫零件;避免刀口之積屑現象;廣泛應用於鋼料成型加工。

PVD鍍膜技術在鎖具行業基材上做表面改性裝飾與耐用效果。水電鍍無法做到的，真空技術幾乎都可以實現各種顏色效果，環保工藝。而且鎖具加工真空鍍膜技術加工在整體顯得大氣，讓人類生活多姿多彩。

真空PVD鍍膜技術在手機外殼/中框及配件

手機外殼與及中框、攝像頭保護圈，槽，音量按鍵，電源開關鍵等裝飾件在不銹鋼基材上采用真空PVD鍍膜技術，加強使用耐磨硬度和顏色多種選擇。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空電鍍是利用的什麼原理?

在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬（如鋁）在高溫下蒸發后會自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。氣為保護性氣體，防止氧化反應影響鍍層質量。