電感耦合等離子體光譜儀價格推薦廠家「多圖」

鋼研納克電感耦合等離子體質譜儀PlasmaMS 300 儀器特點

1. 石英、耐氫1氟酸等豐富多樣的進樣系統；分立式矩管，便于拆卸維護；可選配半導體制冷進樣裝置和自動進樣系統。

2. 27.12MHz全固態RF發生器，實現極高的穩定性；自動匹配速度快，保證了點火成功率

3. 雙錐接口，可在真空狀態下直接拆卸維護

4. 大范圍準確可調的三維平臺，實現矩管全自動定位和校準

5. 雙離軸離子傳輸（偏轉）系統，去除不帶電粒子，保證低噪聲和高靈敏度

6. He氣碰撞池匹配性能高質量流量控制器，有效去除多離子干擾

7. 高通量的長四極桿，質量范圍2-265amu，分辨率<0.8amu；應用的DDS技術，實現自動頻率匹配，保證離子有效篩選

8. 雙模式檢測器，脈沖計數和模擬計數檢測，高達9個數量級線性范圍

9.兩只獨立分子泵組合而成的性能高雙渦輪分子泵真空系統和全自動監控系統，確保穩定性和靈敏度

10. 無處不在的屏蔽處理，保護實驗人員安全和儀器穩定

11. 通過多項可靠性實驗的考驗，保證儀器運行和穩定

12. 人性化的工作軟件

PlasmaMS 300 鋼研納克

中文軟件界面，符合中國人操作習慣，用戶靈活保存檢測方法

全方面的狀態監控輸出，錯誤主動提示，問題一目了然，極大方便日常維護

帶有LIMS接口，滿足第三方實驗室的需求

電感耦合等離子體質譜法測定化妝品中的37種元素

立電感耦合等離子體質譜法測定化妝品中37種元素的檢測方法，根據化妝品不同基質，選用-微波消解體系或-濕法消解體系，采用在線內標及碰撞反應池技術校正機體效應，外標法

定量進行ICP-MS測定。方法檢出限1 ~ 80瞄/kg，線性相關系數均大于0.997, RSD為1.0% - 8.9%， 加標回收率為81.3% ~ 115.2%。實驗結果表明，該方法簡便、快速、靈敏度高、準確性好，適用于化妝品中37種元素的同時測定。

鋼研納克國產ICP-MS具有多元素同時檢測的優勢，靈敏度高、 線性范圍寬，既適用于樣品中痕量元素的檢測也能同時滿足微量元素的測定。ICP-MS分析中干擾問題是影響分析 結果準確度和精密度的障礙，其主要的干擾方式分為質譜干擾、基體干擾和物理效應干擾三大類。質譜干擾

可通過選擇合適的同位素離子及儀器校正消除；物理干擾可通過清洗霧化室，進樣錐及進樣管路消除；基體干擾 是指復雜的基體引起的ICP平衡的轉變，對待側元素的質譜信號產生抑制或增應，可采用加入內標元素校正

和采用碰撞/反應池技術消除。針對化妝品的不同劑型，應用微波消解和濕法消解體系，建立了電感耦合等離子體 質譜對8類化妝品中37種元素的測定方法，為化妝品中重金屬及其他有害元素的監測提供了技術支持。

同位素及內標元素的選擇

選擇干擾小且豐度高的同位素。在ICP-MS分析過程中，分析信號會隨時間而發生漂移，而且化妝品樣品在分

析時的基體效應明顯，被測物信號會出現抑制或增應，使用內標元素，可以有效補償信號漂移和基體效應。 內標元素應選擇和目標元素性質相近、待側試樣不含有且不會對目標元素測定產生干擾的元素，常用的內標元素

為自然界中很少存在的元素，如：銃、釔、銠、錮、錸等，在化妝品樣品測試過程中，發現樣品中經常含有銃、 釔等元素，因此選用銠、錸為內標元素。在內標液配置過程中，可加入適量（濃度小于5%）等， 起基體匹配的作用，使待測結果更準確。各待測同位素的選擇，分子離子的干擾情況和內標元素的選擇見表2。

本文建立的電感耦合等離子體質譜法能滿足化妝品中37種元素定量檢測的各項技術要求，實驗結果表明：方法具有簡便、準確、快速的特點，具有良好的精密度和回收率，適合于化妝品中多元素的同時測定。

 

PLASMAMS 300 的進樣系統包括了蠕動泵(Peristaltic Pump)、(Nebulizer)。每個部件都關

系到能否都將樣品以恒定準確的速率傳遞到離子源(Plasma)處。這些部件在不同設置、 不同條件下，都會影響到靈敏度、背景、穩定性、以及由氣體引入的干擾物。

蠕動泵(Peristaltic Pump):

泵管??? (Pump Windings) – 噪音的來源 樣品提升速率 – 影響氧化物水平以及的穩定性

樣品沖洗 – 需要時候用正確的泵管(winding)和沖洗時間(rinse time)

使用磨損過度的泵管或者泵管夾的壓力不正確，都會導致噪音的產生，進而影響檢測信號 的穩定性。因此，應該保證泵管的位置和壓力都在正常條件下，并且不使用的時候，需要

松開張緊輪(tensioners)或泵管夾(platens)，并且將泵管的一端卡子從卡槽卸下，讓泵管

放松。

樣品以什么速率被傳輸到非常重要。不同由于制造參數不同，其對應的 性能流速也是不一樣的。如果泵速過高，會影響信號穩定性，并且會導致氧化物(Oxides， 基于氣體產生的干擾)產率升高。