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等離子拋光工藝還有退掉鍍膜的功效，我們只要通過特定的拋光劑,在短的時間（30～180s）內(nèi)就可以完全脫掉鍍膜。這樣大大節(jié)省脫膜時間。對于那些表面真空鍍氮化碳或氮化鉻的產(chǎn)品,脫膜相對較難,通過等離子拋光也能去完全將表面膜層去除干凈,但是拋光時間需要延長一倍以上。雖說拋光時間相對增加，但任然不會傷到基材表面，相反會大大增加返鍍的良率（因為等離子拋光能很好提高表面的光澤度，降低表面粗糙度，使表面平滑，光潔，導電性能好）。

等離子拋光技術主要是針對目前市場上不銹鋼、鋅合金、銅合金及鋁合金等拋光的難題而研發(fā)的，該技術可在去除不銹鋼表面毛刺，同 時可達到表面鏡面拋光效果。

      高純度，有效減小對電子類產(chǎn)品的沾污。拋光后產(chǎn)品的特性主要表現(xiàn)在：粗糙度降低，光潔度、精密度提高、堅硬耐用、缺口敏感性降低、變得光滑整齊、摩擦系數(shù)下降、磨損減少等。

對工件的里面一樣拋光光亮。這塊運用這種等離子拋光主要作用在去除人工打磨紋路，少一次清洗程序，增加美觀度，成品率高。由于手工開初和人工打磨精光的時間成本基本相同，結(jié)合等離子拋光節(jié)約一定的成本，主要效用為大大提，提高成品率。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。

拋光工藝一般從沖壓出完全成型產(chǎn)品開始，后續(xù)工序一般有鐳射，電鍍，噴油等。拋光一般采用手工拋光，或者是手工拋光和等離子拋光結(jié)合。手工拋光即手工打磨，靠產(chǎn)品和麻，線，布輪的摩擦作用。手工拋光工藝缺點明顯。??