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電鑄裝置由非金屬導(dǎo)體化設(shè)備、母型剝離設(shè)備、電源和進(jìn)行電鑄的電解槽等構(gòu)成。根據(jù)電鑄的目的不同而會(huì)有各種不同的設(shè)備。例如，為了非金屬表面金屬化，所需要的化學(xué)鍍裝置，有噴鍍法裝置，也有浸鍍法裝置；而電源也有用到高壓性能好的開(kāi)關(guān)電源；鎳和鐵都屬于鐵族元素，而鐵的標(biāo)準(zhǔn)電極電位(-O．44V)比鎳的標(biāo)準(zhǔn)電極電位(-0．23V)負(fù)，但在沉積過(guò)程中，不論鍍液中鎳離子濃度如何過(guò)量，只要加入少量鐵離子，鐵就會(huì)優(yōu)先析出，這是典型的異常共沉積。陽(yáng)極則考慮到溶解的充分而選用球狀陽(yáng)極等。圖5是光盤(pán)原型電鑄所用的旋盤(pán)電極式電鑄裝置。這種裝置讓盤(pán)面呈45。角，使電鑄過(guò)程中產(chǎn)生的氣體容易析出。同時(shí)采用了鍍液沖刷電鑄表面的方式循環(huán)供鍍液