異形工件鍍膜設備原理性價比出眾“本信息長期有效”

鍍膜機廠家介紹光學監控法的特點

真空鍍膜機膜厚的監控方法較多，目前較新的方法是光學監控法，其相對于的傳統的石英晶體微量平衡法來說，光學監控法更具有準確性，因為傳統的測試的方法很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機廠家就來為大家介紹一些光學監控法的特點。

光學監控法可以有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長，光學監控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。能夠更準確地控制膜層厚度 。

上述所說就是鍍膜機廠家為大家介紹的光學監控法的一些特點，而從中我們不難看出光學監控相比傳統的監控法來說是一種更適合對真空鍍膜機膜厚的監測方法。

真空電鍍機的保養方法

1、真空電鍍機每完成兩百次以上的電鍍工作時，應對工作室進行一次清潔，清潔的方法主要為用擦洗真空室內壁，使內壁上的鋁和發生反應脫落并釋放氫氣，而后再用清水清洗一遍，后擦拭其他部位的污垢。

真空電鍍機維修注意事項

2、當真空電鍍機的閥門或者泵連續工作一個月之后，需要對其機油進行更換，如果是在雨季情況下工作，則半個月就應更換一次。

3、如果真空電鍍機的擴散泵連續使用了半年或者以上，則抽速會明顯變慢，此時應當將水管和電爐盤拆下，用將泵內清洗一次，在用洗滌劑清洗一次，后用清水再沖洗一次。這樣清洗完畢之后即可等待水份會發完成再次安裝重新使用。在重新安裝的時候要注意先對設備進行檢漏。

磁控濺射鍍膜設備濺射方式

清洗過程簡化

現有鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個鍍膜過程。清洗效果較好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著力，簡化了大量的鍍前清洗工作。

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主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設備在目前鍍膜行業中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業都會有使用到。我們平日生產的時候都是由機器生產，那么大家知道目前的磁控鍍膜設備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.

現在的直流濺射（也叫二級濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點.

直流濺射發展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材等現象.

而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質區別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設備的區別就是電源的區別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對設備更加了解。