RR41光刻膠廠家值得信賴,賽米萊德

光刻膠介紹

光刻膠介紹

光刻膠(又稱光致抗蝕劑)，是指通過(guò)紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學(xué)敏感性，其經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將設(shè)計(jì)好的微細(xì)圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片。光刻的工序下面我們來(lái)詳細(xì)介紹一下光刻的工序：一、清洗硅片（WaferClean）清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少其它缺陷，提高光刻膠黏附性基本步驟：化學(xué)清洗——漂洗——烘干。因此光刻膠微細(xì)加工技術(shù)中的關(guān)鍵性化工材料，被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作。生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹(shù)脂、單體和其他助劑等。

LCD市場(chǎng)助力

全球LCD面板總出貨面積增長(zhǎng)，LCD光刻膠需求增加。據(jù)WitsView數(shù)據(jù)，雖然近三年國(guó)際LCD廠商面板出貨量有所下降，但是由于大屏顯示的市場(chǎng)擴(kuò)增，LCD整體出貨面積變大，2016年出貨總面積達(dá)到1.7億平方米，同比增長(zhǎng)4.6%。據(jù)WitsView數(shù)據(jù)，雖然近三年國(guó)際LCD廠商面板出貨量有所下降，但是由于大屏顯示的市場(chǎng)擴(kuò)增，LCD整體出貨面積變大，2016年出貨總面積達(dá)到1。隨著LCD出貨面積的持續(xù)增長(zhǎng)，中國(guó)產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)預(yù)測(cè)，未來(lái)幾年全球LCD光刻膠的需求量增長(zhǎng)速度為4%~6%。隨著國(guó)內(nèi)廠商占據(jù)LCD市場(chǎng)比重越來(lái)越大，國(guó)內(nèi)LCD光刻膠需求也會(huì)持續(xù)增長(zhǎng)。

光刻的工序

下面我們來(lái)詳細(xì)介紹一下光刻的工序：

一、清洗硅片（Wafer Clean）

清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少其它缺陷，提高光刻膠黏附性

基本步驟：化學(xué)清洗——漂洗——烘干。

自1970年美國(guó)RCA實(shí)驗(yàn)室提出的浸泡式RCA化學(xué)清洗工藝得到了廣泛應(yīng)用，1978年RCA實(shí)驗(yàn)室又推出兆聲清洗工藝，近幾年來(lái)以RCA清洗理論為基礎(chǔ)的各種清洗技術(shù)不斷被開(kāi)發(fā)出來(lái)，例如：美國(guó)FSI公司推出離心噴淋式化學(xué)清洗技術(shù)、美國(guó)原CFM公司推出的Full-Flow systems封閉式溢流型清洗技術(shù)、美國(guó)VERTEQ公司推出的介于浸泡與封閉式之間的化學(xué)清洗技術(shù)（例Goldfinger Mach2清洗系統(tǒng)）、美國(guó)SSEC公司的雙面檫洗技術(shù)（例M3304 DSS清洗系統(tǒng)）、 日本提出無(wú)藥液的電介離子水清洗技術(shù)（用電介超純離子水清洗）使拋光片表面潔凈技術(shù)達(dá)到了新的水平、以HF / O3為基礎(chǔ)的硅片化學(xué)清洗技術(shù)。光刻膠存儲(chǔ)條件及操作防護(hù)光刻膠是一種可燃液體，儲(chǔ)存條件應(yīng)符合對(duì)應(yīng)的法規(guī)，不要與強(qiáng)氧化劑混合，存放在通風(fēng)良好的地方，保持容器密閉，避免吸入蒸汽或霧氣，避免接觸眼睛、皮膚或衣服，操作后徹底清洗。