材料顯微鏡儀器優(yōu)選企業(yè)

顯微鏡的重要光學技術(shù)參數(shù)

數(shù)值孔徑 數(shù)值孔徑簡寫NA，是物鏡和聚光鏡的主要技術(shù)參數(shù)，是判斷兩者光學性能高低的重要標志。數(shù)值孔徑是物鏡前透鏡與被檢物體之間介質(zhì)的折射率（η）和孔徑角（u）半數(shù)的正玄之乘積。 顯微鏡的重要光學技術(shù)參數(shù) 孔徑角越大，進入物鏡的光通亮就越大，它與物鏡的有效直徑成正比，與焦點的距離成反比。顯微鏡觀察時，若想增大NA值，孔徑角是無法增大的，辦法是增大介質(zhì)的折射率η值。 顯微鏡的重要光學技術(shù)參數(shù) 為了充分發(fā)揮物鏡數(shù)值孔徑的作用，聚光鏡NA值應等于或大于物鏡的NA值，數(shù)值孔徑與其它技術(shù)參數(shù)有著密切的關(guān)系，它幾乎決定和影響著其它各項技術(shù)參數(shù)。它與分辨率成正比，與放大率成正比，與焦深成反比，NA值增大，視場寬度與工作距離都會相應地變小。

顯微鏡頭大發(fā)展1886年,Zeiss(蔡司)打破一般可見光理

顯微鏡鏡頭大發(fā)展 1886年，Zeiss(蔡司)打破一般可見光理論上的極限，其發(fā)明的阿比式及其他一系列的鏡頭為顯微學開啟了新的天地。 我們熟知的蔡司鏡頭便始于之后的1890年，作為150年傳統(tǒng)的鏡頭企業(yè)，在醫(yī)學系列、雙眼鏡、相機鏡頭、擴大鏡、眼鏡、天象儀等光學設備領(lǐng)域里聲名遠播。 架干涉顯微鏡 1930年，Lebedeff(萊比戴衛(wèi))研制了架干涉顯微鏡。Zernicke(卓尼柯)在1932年發(fā)明出相位差顯微鏡，兩人將傳統(tǒng)光學顯微鏡延伸發(fā)展出相位差觀察法。這一觀察方法使生物學家得以觀察染色上的種種細節(jié)。

超越原子級的分辨率,對理解重要的幾類材料非常關(guān)鍵

超越原子級的分辨率，對理解重要的幾類材料非常關(guān)鍵，比如超導體、磁體和催化劑等。理論上來說，原子應均勻地整齊排列，但原子的實際位置常常會有小的偏差，這使得材料可以存儲電荷、信息和能量，比如用作計算機存儲芯片的鐵電氧化物（ferroelectric oxide）和用作固態(tài)燃料電池的電催化氧化物（electrocatalytic oxide）。納米金屬（nanophase metal）、陶瓷、合金、太陽能電池、蓄電池和不同類型的玻璃，這些材料的原子排列非常復雜，現(xiàn)有技術(shù)還無法進行觀測。