愛德華真空泵維修中心進口真空泵油

化學氣相沉淀化學氣相沉淀 (CVD) 系統具有 多種配置用于沉積多種類型的薄膜。制程 還以不同的壓力和流量狀態運行，其中的許多狀態 都使用含氟的干燥清潔制程。所有這些可變因素意味著您 需要咨詢我們的應用工程師之一來選擇適當的泵 和氣體減排系統以便大程度地延長我們產品的維修間隔并 延長您制程的正常運行時間。通用三相電機還可用于所有機型，對于特殊應用，我們可提供裝有ATEX認證防爆電機的泵。

干泵選擇

CVD 制程通常需要通過選擇適當的 干泵產品來克服四個特定挑戰。這些挑戰是：

粉末

許多制程會產生 大量粉末副產品。需要將真空泵設計成 能夠處理這些粉末而不被卡住。在某些情況下，粉末實際上可能 很粘或需要高溫運行才能確保粉末中夾帶的其他 副產品不在泵內部冷凝并卡住泵機構。 對于幾乎所有產生粉末的制程，您將不得不使用 采用高扭矩電機的泵，以確保泵在應力下保持 旋轉。提供干式真空泵、渦輪分子泵與使用點減排系統等各種系統，用來優化從輕負荷制程到超重負荷制程的各項應用的性能表現。

冷凝

半導體 制程的某些副產品含有氣體，當氣體分壓 增加或與冷表面接觸時，這些氣體會從氣 相變為固相。在泵送這些副產品時， 您將需要非常熱的泵，是從入口到出口 具有盡可能一致的溫度分布的泵。

腐蝕

有些制程 需要泵送鹵化物。尤其是需要含氟的清潔制程來 保持艙室的清潔性，但被激的氟自由基 可能會侵蝕泵的內表面。如果制程主要使用 可能對泵造成腐蝕的化學品，您需要確保可以 將泵溫度設置為一個較低值以降低腐蝕風險。我們的泵設計 具有可選的溫度設定點和高旋轉 速度以降低腐蝕風險并降低泵中不可避免 發生的總體材料損失速率。對于某些 CVD 制程，需要在溫度設定點上 達到平衡，以確保避免任何冷凝問題， 同時不使腐蝕速度過高。冷凝半導體制程的某些副產品含有氣體，當氣體分壓增加或與冷表面接觸時，這些氣體會從氣相變為固相。