真空鍍鈦報價常用指南

真空蒸鍍可應用在哪些產業?主要產業大多應用于裝飾、光學、電性、機械及防蝕方面等，現就比較常見者分述如下：1.鏡片的抗反射鍍膜(MgO、MgF2、SiO2等)，鏡片置于半球支頂，一次可鍍上百片以上。2.金屬、合金或化合物鍍膜，應用于微電子當導線、電阻、光電功能等用途。3.鍍鋁或鉭于絕緣物當電容之電極。4.特殊合金鍍膜MCrAlY具有耐熱性抗yang化性，耐溫達1100OC，可應用須耐高溫環境的工件，如高速切削及成形加工、渦輪引擎葉片等。5.鍍金屬于玻璃板供建筑物之裝飾及防紫外線。

PVD(物理氣相沉積)技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來，真空離子鍍技術的發展是zui快的，它已經成為了當代zui先進的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質源是固態物質，經過“蒸發或濺射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態物質涂層。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術的主要特點和優勢：和真空蒸發鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優點：1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件3．膜層沉積速率快，生產效lv高4．可鍍膜層種類廣泛5．膜層性能穩定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）PVD是英文PhysicalVaporDepsition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。PVD鍍膜和PVD鍍膜機：PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。