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不同的不銹鋼表面處理工藝，能夠讓同樣的材質凸顯不同的視覺效果及手感特征。從設計的角度出發，需要了解下面這七種不銹鋼的表面處理工藝。1.PVD工藝PVD(PhysicalVaporDepsition)---物理氣相沉積：指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸發、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類。真空蒸鍍在真空條件下，采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。濺射鍍膜利用氣體放電產生氣體電離，其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。離子鍍膜在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質離子化，在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用下，把蒸發物質或其反應物蒸鍍在工件上。

采用PVD涂鍍技術可以生產極薄的涂層且可以擴張到其他合金體系,因此具有更廣闊的應用價值。涂層厚度減半甚至到原來的1/3,對涂鍍板的焊接性能和成型性能會有很大的提高。更為重要的是，與傳統技術相比，PVD涂鍍技術不需要進行yan塵和排放物的控制，因此，具有環保優勢。采用新的PVD涂鍍技術，首先必須解決的問題是，實現涂鍍工程的工業化規模生產，達到連續化和高速化涂鍍的要求。PVD（PhysicalVaporDepsition）鍍膜，是指利用物理手段實現物質轉移，將原子或分子級新材料轉移到基材表面的過程。