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PVD涂層（鍍膜）技術(shù)原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其他反應(yīng)物沉積在工件上。涂層性質(zhì)（如硬度、結(jié)構(gòu)、耐化學(xué)和耐溫性、結(jié)合力）可以被jing確地控制。（2）工藝特點(diǎn)：在PVD工藝中的高純度固體涂層材料（金屬如鈦、鉻和鋁）既可通過加熱或通過離子轟擊（濺射）來得到蒸發(fā)。同時添加反應(yīng)性氣體（例如氮?dú)饣蚝細(xì)怏w）；之后形成含金屬蒸氣的復(fù)合物，并以高度粘附性薄涂層沉積在工具或零部件上。以恒定速度旋轉(zhuǎn)固定在幾個軸上的零件可獲得均勻的涂層厚度。

在PVD技術(shù)下，用于制備薄膜材料的物質(zhì)，統(tǒng)稱為PVD鍍膜材料。經(jīng)過多年發(fā)展，PVD技術(shù)已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜。②CVD技術(shù)CVD技術(shù)是在高溫下依靠化學(xué)反應(yīng)、把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜材料的技術(shù)。PVD鍍膜材料產(chǎn)業(yè)鏈上下游關(guān)系2.PVD鍍膜材料下游太陽能應(yīng)用行業(yè)概況太陽能光伏行業(yè)中，PVD鍍膜材料主要應(yīng)用于太陽能電池。按太陽能電池的結(jié)構(gòu)劃分，可分為結(jié)晶硅和薄膜太陽能電池二大族群。

鋅液中夾雜過多其他金屬成分或有害元素，可能造成如鋅渣顆粒粘附在鍍層表面和一些非正常的花紋、龜裂紋等缺陷：

(1)鐵

熱鍍鋅一段時間后，鋼制件表面會出現(xiàn)鋅堆積和微小鋅渣顆粒，致使鍍層表面粗糙，光滑度也隨之下降。這種微小顆粒一般是Fe—Zn合金顆粒渣。

鋅液中鐵的來源一般有鋅鍋的腐蝕、制件的溶解、助鍍劑中的鐵離子及制件上的鐵鹽4方面。因此，為了獲得平整光滑的鍍層，必須嚴(yán)格控制鋅液中鐵含量，減少鐵離子的帶入，控制鋅液溫度，避免鋅液溫度的忽高忽低，降低鋅鍋的腐蝕速度等。

熱鍍鋅鋁鍍層(ZA)hot-dip zinc-aluminium coating

熔融池中金屬液體含有大約5%鋁（Al）和少量稀土元素，其余為鋅。

鋅鋁鍍層表面比純鋅鍍層亮，耐蝕性強(qiáng)于純鋅鍍層，但在國內(nèi)應(yīng)用比較少，外貿(mào)詢單中偶有提及。

鍍層厚度和重量的關(guān)系： 1μm≈6.6g/m2。

熱鍍鋁鋅鍍層(AZ) hot-dip aluminium-zinc coating

熔融池中金屬液體含有大約55％鋁（Al）和約1.6%硅，其余為鋅。

鋁鋅鍍層有優(yōu)異的耐蝕性，同時也具備一定的耐高溫性。

鍍層厚度和重量的關(guān)系：鍍層厚度1μm≈3.8g/m2。

注：熱鍍鋅鋁（ZA）和熱鍍鋁鋅（AZ）是兩種完全不同的鍍層，雖然在內(nèi)貿(mào)中熱鍍鋅鋁產(chǎn)品較少，但在外貿(mào)詢單中仍時有提及，需仔細(xì)確認(rèn)。