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磁控濺射鍍膜機(jī)

目前認(rèn)為濺射現(xiàn)象是彈性碰撞的直接結(jié)果，濺射完全是動(dòng)能的交換過程。而且因?yàn)榍謇砉π?，使金屬材料粗糙度減少，除去不銹鋼鈍化的殘?jiān)蛷U棄物，改進(jìn)了金屬材料的工藝性能。當(dāng)正離子轟擊陰極靶，入射離子當(dāng)初撞擊靶表面上的原子時(shí)，產(chǎn)生彈性碰撞，它直接將其動(dòng)能傳遞給靶表面上的某個(gè)原子或分子，該表面原子獲得動(dòng)能再向靶內(nèi)部原子傳遞，經(jīng)過一系列的級聯(lián)碰撞過程，當(dāng)其中某一個(gè)原子或分子獲得指向靶表面外的動(dòng)量，并且具有了克服表面勢壘(結(jié)合能)的能量，它就可以脫離附近其它原子或分子的束縛，逸出靶面而成為濺射原子。

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磁控濺射鍍膜儀設(shè)備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢

磁控濺射鍍膜儀設(shè)備發(fā)展至今，在工業(yè)方面顯的極為重要，其作用范圍廣泛，徹底的改變了傳統(tǒng)的鍍膜行業(yè)。使得鍍膜作業(yè)在生產(chǎn)質(zhì)量方面以及效率方面都得到了較大的提升。那么磁控濺射鍍膜儀設(shè)備在工業(yè)中有什么優(yōu)勢呢？

磁控濺射鍍膜儀設(shè)備主要有一下優(yōu)勢：

1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷??；

2、對于大部分材料，只要能制成耙材，就可以實(shí)現(xiàn)濺射；

3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好；

4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好；

5、濺射工藝可重復(fù)性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜；

6、能夠準(zhǔn)確控制鍍層的厚度，同時(shí)可通過改變參數(shù)條件控制組成薄膜的顆粒大小；

7、不同的金屬、合金、氧化物能夠進(jìn)行混合，同時(shí)濺射于基材上；

8、易于實(shí)現(xiàn)工業(yè)化。

隨著科技的發(fā)展，磁控濺射鍍膜儀設(shè)備在日常中個(gè)方面都有著極大的貢獻(xiàn)，不僅在節(jié)能環(huán)保方面有著重大的提升，更為重要的是其解放了勞動(dòng)人民的雙手，讓勞動(dòng)者徹底的從傳統(tǒng)鍍膜行業(yè)中解放。

磁控濺射原理

濺射過程即為入射離子通過--系列碰撞進(jìn)行能量和動(dòng)量交換的過程。

電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與Ar原子發(fā)生碰撞，電離出大量的Ar離子和電子，電子飛向基片，在此過程中不斷和Ar原子碰撞，產(chǎn)生更多的Ar離子和電子。濺射鍍膜機(jī)濺射鍍技術(shù)優(yōu)點(diǎn)濺射鍍膜機(jī)濺射鍍技術(shù)應(yīng)用蒸發(fā)和磁控濺射兩用立式裝飾鍍膜機(jī)，主要適用于塑料、陶瓷、玻璃金屬材料表面鍍制金屬化裝飾膜。Ar離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。

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