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發布時間：2020-11-15 11:42
NR9-3000PYNR74g 6000PY光刻膠公司
光刻膠底膜處理：清洗：清潔干燥，使硅片與光刻膠良好的接觸。烘干：去除襯底表面的水汽，使其徹底干燥，增粘處理(涂底)： 涂上增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物，HMDS，光刻膠疏水，Sio2 空氣中，Si-OH, 表面有，親水性，使用HMDS （H2C）6Si2NH 涂覆，熏蒸 與 SI –OH結合形成Si-O-Si(CH2)2，與光刻膠相親。前道工藝出了問題，保證不了科研與生產，光刻膠國產化就遙遙無期。
PR1-1000A1NR74g 6000PY光刻膠公司NR74g 6000PY光刻膠公司
5,顯影液
在已經曝光的硅襯底膠面噴淋顯影液，或將其浸泡在顯影液中，正膠是曝光區、而負膠是非曝光區的膠膜溶入顯影液，膠膜中的潛影顯現出來，形成三維圖像。
顯影完成后通常進行工藝線的顯影檢驗，通常是在顯微鏡下觀察顯影效果，顯影是否徹底、光刻膠圖形是否完好。
影響顯影的效果主要因素：
1，曝光時間，2前烘溫度和時間，3光刻膠膜厚，4顯影液濃度溫度，5顯影液的攪動情況。
NR9-3000PY
11．請教~有沒有同時可以滿足RIE
process 和Lift-off
process的光阻，謝謝！
A 我們推薦使用Futurrex
NR1-300PY來滿足以上工藝的需求。
12．Futurre光刻膠里，有比較容易去除的負光阻嗎？
A NR9-系列很容易去除，可以滿足去膠需要。
13．我們目前用干膜做窄板，解析度不夠，希望找到好的替代光阻？
A NR9-8000因為有很高的AR比例，適合取代，在凸塊的應用上也有很大的好處。
14．傳統的Color
filter 制程，每個顏色的烘烤時間要2-3個小時，有沒有更快的方法制作Coior
filter?
A 用于Silylation制程------烘烤時間只需要2分鐘，同時光阻不需要Reflow, 顏色也不會老化改變，只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！
15．請問有專門為平坦化提供材料的公司嗎？
A 美國Futurrex公司，專門生產應用化學品的，可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設計，臺灣企業用的比較多。
16．我需要一種可用于鋼板印刷的方式來涂布PROTECTIVE
COATING，那種適合？？
A 推薦美國Futurrex，PC4-10000。
17．臘是用來固定芯片的，但很難清洗干凈，哪里有可以替代的產品介紹下，謝謝？
A 我們公司是使用Futurrex
PC3-6000,可以替代的，而且去除比較容易，你可以試用下。
18．請問有沒有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應用的光刻膠嗎？
A NR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在鍍鎳的襯底上不會出現難去膠的問題，如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。
19．誰有用在光波導圖案的光刻膠？是否可以形成角度為30度的側壁？
A 你必須實現通過逐步透光來實現掩膜圖案棱的印刷，NR4-8000P是專門為光波導圖案應用進行設計的產品。
