單靶磁控濺射儀公司信賴推薦 沈陽鵬程真空技術

光纖磁控濺射鍍膜機組成

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設備用途：

在光纖表面鍍制納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。配有陽極層離子源進行清洗和輔助沉積，同時設備具有反濺射清洗功能，以提高膜的質量和牢固度。專用樣品臺可鍍制多種型號光纖產品

系統主要由真空室、磁控靶、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。

直流磁控濺射技術的原理

沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業生產、銷售磁控濺射產品，我們公司堅持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽，以產品求發展，以質量求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創輝煌。

直流磁控濺射技術其原理是：在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質量。同時，經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。靶材和輝光之間為電壓降區域，給正離子提供足夠能量的電場，正離子加速轟擊到靶材上，使靶材的物質濺射出來，沉積到基體上（兩側的長線）。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優點。

【磁控濺射鍍膜設備】使用注意事項

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產磁控濺射產品，歡迎新老客戶蒞臨。

磁控濺射鍍膜設備是目前一種鍍膜產品，相比傳統的水電鍍來講，磁控濺射鍍膜設備無毒性，能夠掩蓋，彌補多種水電鍍的缺陷。

近年來磁控濺射鍍膜設備技術得到了廣泛的應用，現國內磁控濺射鍍膜設備廠家大大小小的也非常多，但是專注于磁控濺射鍍膜設備生產，

經驗豐富的卻造磁控濺射鍍膜設備廠家，就一定會有一定的規模，這類磁控濺射鍍膜設備不像是小件的東西，

磁控濺射鍍膜設備其技術含量非常的高，選購磁控濺射鍍膜設備時一定要先了解。

磁控濺射鍍膜設備技術含量高，那么就一定要擁有一個非常強大的磁控濺射鍍膜設備技術工程隊伍，

磁控濺射鍍膜設備行業資深的專家，磁控濺射鍍膜設備可根據用戶的產品工藝及物殊要求設計配置。