400A多源蒸發鍍膜機供應詢問報價

什么是蒸發鍍膜？

蒸發鍍膜常稱真空鍍膜。

其特點是在真空條件下，材料蒸發并在玻璃表面上凝結成膜，再經高溫熱處理后，在玻璃表面形成附著力很強的膜層。有70 多種元素、50 多種無機化合物材料和多種合金材料可供選擇。PVD工藝的首要條件是在真空條件下操作，因為限量以上的殘余氣體會影響膜的成分和性質。為了實現鍍膜工藝，要求殘余氣體的壓力為0.1～1Pa。0×10Pa-4真空室：D形真空室，尺寸350×400mm樣品臺：尺寸為4英寸4平面樣品。

ZF350有機無機聯合制備：采用3～4組蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發。廣泛應用于高校材料、物理、化學、電子、能源等相關學科以及科研院所制備高質量功能薄膜、蒸鍍電極等，特別適合OPV/鈣鈦礦/無機薄膜太陽能電池、半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發領域。1、樣品位于真空室上方，蒸發源位于真空室下方，向上蒸發鍍膜，且蒸發源帶有擋板裝置。

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電阻熱蒸發鍍膜——“蒸發技術”介紹

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蒸發技術分為間歇蒸發與連續蒸發、直接電阻加熱蒸發和間接電阻加熱蒸發,連續生產與制造厚膜時采用連續蒸發加熱。一個入射的蒸氣原子在表面的滯留時間中,原子不斷地擴散形成不均勻的成核作用，隨著蒸氣原子不斷地沖擊表面,各個核都在增長，相鄰各核開始接觸進入聚結階段，直到形成連續膜。也可把上述過程劃分為小島階段、網絡階段、孔階段及連續膜階段。2、設有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，烘烤加熱溫度為≤180℃。

Parylene裂解儀

Parylene用獨特的真空氣相沉積工藝（CVD技術）制備，由活性小分子在基材表面'生長'出完全敷形的聚合物薄膜涂層，它能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊，號稱'無孔不入'可深入裂縫里和內表面。這種真空狀態下室溫沉積制備的0.1-100微米薄膜涂層，厚度均勻、致密無、透明無應力、不含助劑、不損傷工件、有優異的電絕緣性和防護性，甚至被業內稱為當今世界的防潮、防霉（零級）、防腐、防鹽霧的特殊防護涂層。Parylene涂層在具備以上優異防護性能基礎上,尤其還具有良好的生物兼容性,生物穩定性，并有優異的自潤滑性,涂層均勻可控性,以及好的物理機械性能。Parylene涂層在具備以上優異防護性能基礎上,尤其還具有良好的生物兼容性,生物穩定性，并有優異的自潤滑性,涂層均勻可控性,以及好的物理機械性能。

1.一腔體，采用SUS304不銹鋼艙體有效鍍膜空間 ≧ 直徑300mm x 高度350mm，腔體設有觀景窗, 采用掀蓋式腔蓋并設有把手以便腔蓋開閉。

2. 旋轉平臺，可承載重量: 20公斤,旋轉速度: 0.5至10 rpm。

3. 油式泵浦，抽氣速度 ≧ 200L/min ; 壓力 ≦ 5*10-3Torr。

4. 控制系統，采用具PID功能之溫控模塊及高的精度溫度傳感器，系統可進行自動或半自動(溫控/真空)操作,并可儲存與選擇Recipe 。

5. 附屬冷凝機，溫度 ≦ -90℃

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