高純供氣系統價格多重優惠

實驗供氣系統使用安全注意事項

1.易1燃易1爆氣體：此類氣體只要形成了可燃氣體爆1炸混合氣和達到著火溫度。便會發生燃燒爆1炸事故因此在可燃氣體入口處、氣體鋼瓶存放間、潔凈室

內使用可燃氣體處、敷設可燃氣體的管廊或技術夾層以及可能聚集可燃氣體的場所均應設置可燃氣體報警裝置。具體要求如下：

①可燃氣體比空氣輕者，報警裝置設置在所處場所的頂部。

②可燃氣體比空氣重者，報警裝置設置在所處場所的1低處。

③可燃氣體的報警裝置應與相應的事故排風裝置設電氣連鎖，當空氣中的可燃氣體濃度達到規定值時，事故排風裝置自動開啟，同時向潔凈廠房的消防安全值班室發出報警信號。

④為防止倒流回火應在用氣設備的支管上設置阻火器，在排入大氣的排氣管道上，為防止排氣時突遇雷電襲1擊阻止火焰蔓延至可燃氣體管道引發燃燒爆1炸事故，必須在排氣管道上設置阻火器。

⑤可燃氣體在適當的管道處應做接地，但接地電阻應符合相關規定。

⑥各種可燃氣體管道系統均應設置能引入氮氣等惰性氣體的接口及相應的檢測口，以便在可燃氣體供應系統使用前后或檢修動火前后對其系統進行吹掃置換，但是惰性氣體吹掃接口在正常運行中不能與氣體鋼瓶或惰性氣體管道相通，以避免影響氣體質量。

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大宗特氣供氣系統介紹

大宗特氣供氣系統主要針對大規模量產的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產線（氣體種類包括NH3），發光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產線（氣體種類包括HCL）等行業。它們的投資規模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出嚴格的要求。試驗室供氣現狀目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統完成上述工作。

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試驗室集中供氣系統的特點

1、特點：試驗室要求使用載氣流量恒定、氣體純度高，為試驗室選用的分析設備提供量值和壓力穩定的氣體。

2、經濟性：建一個集中的氣瓶間可以節省有限的試驗室空間，更換氣瓶時不需要切斷氣體，保證氣體的連續供應。使用者只需管理較少的氣瓶，支付較少的氣瓶租金，因為使用同一氣體的所有使用點來自于同一個氣源。此種供應方式終會減少運輸費用，減少退還給氣體公司的空瓶中的余氣量，以及良好的氣瓶管理。氦質譜檢漏儀隨著科技的迅猛發展，氦質譜檢漏儀及其應用技術也在不斷發展和究善。

3、使用率：集中管道供應系統可以將氣體出口放置在使用點處，這樣的話可以更合理的設計工作場所。

4、安全性：保證其儲存和使用的安全性。保障分析測試人員在實驗中免受有毒有害氣體的侵害。

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高純氣體的輸送管路系統

隨著微電子工業的發展，超大規模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高，對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統提出了非常高的要求 。系統采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式，在一拖多時能夠實現分段控制和在多拖一和多拖多時能夠實現切換控制。