微弧氧化技術(shù)要求貨真價實「日照微弧技術(shù)」

微弧氧化膜的優(yōu)勢

微弧氧化膜與普通陽極氧化膜相比， 這種膜的空隙率大大降低，從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。目前，微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti 等有色金屬或其合金的表面處理中。由于其工藝特點明顯，表面處理的性能優(yōu)勢突出，自該技術(shù)被發(fā)明以來，備受人們的青睞。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相組成，總膜厚可達(dá)100 Lm以上, 具有明顯的三層結(jié)構(gòu): 外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。

微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化

微弧氧化膜具有特殊的多孔質(zhì)結(jié)構(gòu)，使得它在金屬材料功能化方面有著巨大的應(yīng)用潛力，如在微弧氧化膜的細(xì)孔中填充潤滑性物質(zhì)，可以作為性能優(yōu)良的減摩抗磨材料。影響微弧氧化膜生長和性能的因素很多，有待于系統(tǒng)而深入地研究，以弄清楚各因素對膜性能的影響規(guī)律，使得不同性能要求下的微弧氧化工藝更具有可重現(xiàn)性。1．微弧氧化技術(shù)大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在HV800~2000，高可達(dá)HV3000，可與硬質(zhì)合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度。　微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化的應(yīng)用

微弧氧化是通過用的微弧氧化電源在工件上施加高電壓，使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，它是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術(shù)，與傳統(tǒng)的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化處理是一種在有色金屬表面原位生長氧化物陶瓷的新技術(shù)，具有與基體金屬結(jié)合力強、硬度高、耐腐蝕、耐磨損、耐熱沖擊等優(yōu)點，是非常有前途的輕合金表面處理方法。