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              PR1 2000A1光刻膠廠家滿意的選擇

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              發(fā)布時(shí)間:2020-11-03 14:53  






              光刻膠介紹

              光刻膠介紹

              光刻膠(又稱光致抗蝕劑),是指通過(guò)紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學(xué)敏感性,其經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設(shè)計(jì)好的微細(xì)圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片。因此光刻膠微細(xì)加工技術(shù)中的關(guān)鍵性化工材料,被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作。前道工藝出了問(wèn)題,保證不了科研與生產(chǎn),光刻膠國(guó)產(chǎn)化就遙遙無(wú)期。生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹(shù)脂、單體和其他助劑等。


              彩色薄膜少了光刻膠,產(chǎn)生不了絢麗的畫(huà)面

              顯示器是人與機(jī)器溝通的重要界面。光刻膠是整個(gè)光刻工藝的重要部分,也是國(guó)際上技術(shù)門檻較高的微電子化學(xué)品之一,主要應(yīng)用在集成電路和平板顯示兩大產(chǎn)業(yè)。光刻技術(shù)決定了集成電路的集成度,技術(shù)節(jié)點(diǎn)的推進(jìn)和實(shí)現(xiàn)。

              章宇軒介紹,我們?cè)谌粘9ぷ魃钪校阅軓娘@示屏幕上看到色彩斑斕的畫(huà)面,就是離不開(kāi)屏幕中厚度只有2μm、卻占面板成本16%的一層彩色薄膜。然而,彩色薄膜顏色的產(chǎn)生,必須由光刻膠來(lái)完成。

              LCD是非主動(dòng)發(fā)光器件,其色彩顯示必須由本身的背光系統(tǒng)或外部的環(huán)境光提供光源,通過(guò)驅(qū)動(dòng)器與控制器形成灰階顯示,再利用彩色濾光片產(chǎn)生紅、綠、藍(lán)三基色,依據(jù)混色原理形成彩色顯示畫(huà)面。

              其中,根據(jù)顏色的不同,可以將光刻膠分為黑色、紅色、綠色、藍(lán)色四種。彩色濾光片的制作就是在玻璃基板上應(yīng)用黑色光刻膠制作黑色矩陣,再應(yīng)用紅、綠、藍(lán)光刻膠制作三原色像素。


              芯片光刻的流程詳解(一)

              在集成電路的制造過(guò)程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因?yàn)橛辛怂覀儾拍茉谖⑿〉男酒蠈?shí)現(xiàn)功能。現(xiàn)代刻劃技術(shù)可以追溯到190年以前,1822年法國(guó)人Nicephore niepce在各種材料光照實(shí)驗(yàn)以后,開(kāi)始試圖復(fù)一種刻蝕在油紙上的印痕(圖案),他將油紙放在一塊玻璃片上,玻片上涂有溶解在植物油中的瀝青。經(jīng)過(guò)2、3小時(shí)的日曬,透光部分的瀝青明顯變硬,而不透光部分瀝青依然軟并可被松香和植物油的混合液洗掉。江蘇博硯電子科技有限公司董事長(zhǎng)宗健表示,光刻膠要真正實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化,難度很大。通過(guò)用強(qiáng)酸刻蝕玻璃板,Niepce在1827年制作了一個(gè)d’Amboise主教的雕板相的產(chǎn)品。

              Niepce的發(fā)明100多年后,即第二次大戰(zhàn)期間才應(yīng)用于制作印刷電路板,即在塑料板上制作銅線路。到1961年光刻法被用于在Si上制作大量的微小晶體管,當(dāng)時(shí)分辨率5um,如今除可見(jiàn)光光刻之外,更出現(xiàn)了X-ray和荷電粒子刻劃等更高分辨率方法。一部分閃存產(chǎn)品前段器件形成時(shí),需要利用前面存儲(chǔ)單元cell區(qū)域的層多晶硅與光刻膠共同定義摻雜的區(qū)域,由于光刻膠是作為高濃度金屬摻雜時(shí)的阻擋層,在摻雜的過(guò)程中,光刻膠的外層吸附了一定濃度的金屬離子,這使得光刻膠最外面形成一層堅(jiān)硬的外殼。


              NR9-3000PY

              11.請(qǐng)教~有沒(méi)有同時(shí)可以滿足RIE

              process 和Lift-off

              process的光阻,謝謝!

              A 我們推薦使用Futurrex

              NR1-300PY來(lái)滿足以上工藝的需求。

              12.Futurre光刻膠里,有比較容易去除的負(fù)光阻嗎?

              A NR9-系列很容易去除,可以滿足去膠需要。

              13.我們目前用干膜做窄板,解析度不夠,希望找到好的替代光阻?

              A NR9-8000因?yàn)橛泻芨叩腁R比例,適合取代,在凸塊的應(yīng)用上也有很大的好處。

              14.傳統(tǒng)的Color

              filter 制程,每個(gè)顏色的烘烤時(shí)間要2-3個(gè)小時(shí),有沒(méi)有更快的方法制作Coior

              filter?

              A 用于Silylation制程------烘烤時(shí)間只需要2分鐘,同時(shí)光阻不需要Reflow, 顏色也不會(huì)老化改變,只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!

              15.請(qǐng)問(wèn)有專門為平坦化提供材料的公司嗎?

              A 美國(guó)Futurrex公司,專門生產(chǎn)應(yīng)用化學(xué)品的,可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設(shè)計(jì),臺(tái)灣企業(yè)用的比較多。

              16.我需要一種可用于鋼板印刷的方式來(lái)涂布PROTECTIVE

              COATING,那種適合??

              A 推薦美國(guó)Futurrex,PC4-10000。

              17.臘是用來(lái)固定芯片的,但很難清洗干凈,哪里有可以替代的產(chǎn)品介紹下,謝謝?

              A 我們公司是使用Futurrex

              PC3-6000,可以替代的,而且去除比較容易,你可以試用下。

              18.請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應(yīng)用的光刻膠嗎?

              A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在鍍鎳的襯底上不會(huì)出現(xiàn)難去膠的問(wèn)題,如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。

              19.誰(shuí)有用在光波導(dǎo)圖案的光刻膠?是否可以形成角度為30度的側(cè)壁?

              A 你必須實(shí)現(xiàn)通過(guò)逐步透光來(lái)實(shí)現(xiàn)掩膜圖案棱的印刷,NR4-8000P是專門為光波導(dǎo)圖案應(yīng)用進(jìn)行設(shè)計(jì)的產(chǎn)品。


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