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              PVD中頻離子鍍膜機(jī)在線咨詢(xún)「多圖」

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              發(fā)布時(shí)間:2020-12-13 09:27  









              光學(xué)真空鍍膜設(shè)備該如何進(jìn)行保養(yǎng)


              光學(xué)真空鍍膜設(shè)備主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組限及電柜(控制電柜、電子槍電樞)組成,其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。光學(xué)真空鍍膜設(shè)備在防止油污染和縮短工作周期等方面具有的性能。

              光學(xué)真空鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋牧鲜軣岷笳舭l(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大,蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射,碰到基片就沉積在基片表面形成臘層。



              多弧離子真空鍍膜機(jī)的由來(lái)


              我國(guó)在真空鍍膜行業(yè),目前更多的應(yīng)用都集中在裝飾方面,對(duì)能有效地提高關(guān)鍵部件使用壽命機(jī)械功能薄膜的制備設(shè)備、工藝及應(yīng)用研究方面還遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后于國(guó)外先進(jìn)水平。同時(shí),裝飾鍍方面也逐漸向耐磨和裝飾雙重功能的方向發(fā)展,之前的離子鍍膜機(jī)已體現(xiàn)出不能滿足裝飾鍍要求的問(wèn)題。本技術(shù)的研發(fā)成功,將打破國(guó)內(nèi)機(jī)械功能耐磨減摩薄膜完全依靠國(guó)外技術(shù)的被動(dòng)局面;對(duì)提高我國(guó)裝備制造業(yè)的技術(shù)水平和真空離子鍍的技術(shù)發(fā)展都是一個(gè)非常好的示范作用。另外,將制備的耐磨減摩薄膜應(yīng)用于其它關(guān)鍵部件中,起到了非常好的節(jié)約能源和提率的示范作用,可替代部分原來(lái)電鍍的工藝,對(duì)環(huán)境保護(hù)起到很好的作用。


              目前,國(guó)際上機(jī)械功能硬質(zhì)薄膜(特別是刀具用膜層)大多采用陰極電弧沉積技術(shù),但陰極電弧沉積存在的主要技術(shù)問(wèn)題是所制備的膜層表面不夠光潔,有較多的顆粒,影響應(yīng)用性能;特別是國(guó)內(nèi)制造的陰極電弧沉積設(shè)備顆粒問(wèn)題尤為嚴(yán)重。在此技術(shù)基礎(chǔ)上引入磁過(guò)濾技術(shù),雖可解決表面沉積的顆粒問(wèn)題,但沉積效率只有原來(lái)的1/10左右,并且沉積面積小,從而使生產(chǎn)周期長(zhǎng),制造成本高,不適合大批量鍍膜生產(chǎn)應(yīng)用。而磁控濺射技術(shù)所制備的膜層表面光潔、細(xì)膩,沉積速率適中,能均勻地大面積沉積薄膜。但磁控濺射技術(shù)也存在離化率低(一般在10%),所制備的膜層在硬度、耐磨性及結(jié)合力上不如陰極電弧技術(shù)所制備的膜層;在進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)性鍍膜(如TiN、TiO2)時(shí),由于金屬粒子的離化率低、反應(yīng)活性差,必須過(guò)量通入反應(yīng)性氣體,造成磁控靶面的毒化(化學(xué)反應(yīng)),引起蒸發(fā)速率急劇降低等一系列雪崩式后果,使得磁控濺射反應(yīng)鍍膜存在著不穩(wěn)定性和不可控性。



              PVD技術(shù)都有那些分類(lèi)呢


              ?PVD真空鍍膜機(jī)物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長(zhǎng)法,沉積過(guò)程是在真空或低氣氣體放電條件下,涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì),經(jīng)過(guò)“蒸發(fā)或?yàn)R射”后,在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是,兩者都屬于表面處理的范疇,都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。那么這兩者的不同點(diǎn)是:PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大,膜層的硬度更高,耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類(lèi)更為廣泛,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。

              在現(xiàn)階段,PVD鍍膜是不能取代化學(xué)電鍍的,并且除了在不銹鋼材料表面可直接進(jìn)行PVD鍍膜外,在很多其他材料(如鋅合金、銅、鐵等)的工件上進(jìn)行PVD鍍膜前,都需要先對(duì)它們進(jìn)行化學(xué)電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應(yīng)用在一些比較五金制品上,對(duì)那些價(jià)格較低的五金制品通常也只是進(jìn)行化學(xué)電鍍而不做PVD鍍膜。



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