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微弧氧化技術特點

（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000HV，高可達3000HV，可與硬質合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

（2）良好的耐磨損性能；

（3）反應在常溫下進行，操作方便，易于掌握。

（4）基體原位生長陶瓷膜，結合牢固，陶瓷膜致密均勻。微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

        微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜，與基體呈冶金結合，膜層致密，具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達到600-1500HV(膜層厚度20-50μm），耐磨性能優于硬質陽極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗水平可達2000小時以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性，耐500V以上的高壓沖擊，且有效防止電偶腐蝕；日照微弧氧化技術有限公司專業從事微弧氧化技術的研發以及設備的生產銷售，歡迎咨詢訂購。氧化膜還具有良好的隔熱特性，是鋁合金活塞的首要選擇。

微弧氧化工藝

      微弧氧化是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加高電壓，使工件表面的金屬與電解質溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達到工件表面強化、硬度大幅度提高、耐磨、耐蝕、耐壓、絕緣及抗高溫沖擊特性得到改善的目的。膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右）膜層與基體為冶金結合、厚度在幾微米至幾百微米之間。微弧氧化生產線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝設備、微弧氧化工藝原理

微弧氧化的優勢

       微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術，微弧氧化技術是近十幾年在陽極氧化基礎上發展起來的，但兩者在機理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。所謂等離子體就是由大量的自由電子和離子組成，且在整體上表現為電中性的物質，它被稱為固態、氣態和液態以外的第四態。處于熱等離子態的物質具有強的導電性，且能量集中，溫度較高，是一個高熱、高溫的能源。與傳統的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結合牢固，結構致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應用前景。溶液冷卻和攪拌系統在微弧氧化過程中，會在工件表面產生瞬時高溫高壓，為了及時能帶走產生的熱量及平衡穩定氧化槽的溫度，必須配備外循環和熱交換方式，溶液的循環同時達到攪拌和冷卻槽液的目的。