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物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是指在真空條件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或電離成離子，并通過氣相過程，在材料表面沉積一層薄膜的技術。

物理沉積技術主要包括真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍三種基本方法。

物理氣相沉積具有適用的基體材料和膜層材料廣泛；工藝簡單、省材料、無污染；獲得的膜層膜基附著力強、膜層厚度均勻、致密、少等優點。

廣泛用于機械、航空航天、電子、光學和輕工業等領域制備耐磨、耐蝕、耐熱、導電、絕緣、光學、磁性、壓電、滑潤、超導等薄膜。

氣相沉積技術是指將含有沉積元素的氣相物質，通過物理或化學的方法沉積在材料表面形成薄膜的一種新型鍍膜技術。

根據沉積過程的原理不同，氣相沉積技術可分為物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)兩大類。

鈍化是將金屬置于（亞、、鉻酸鹽）或者（重鉻酸鹽）溶液中處理，使金屬表面生成一層鉻酸鹽鈍化膜的過程，又稱鉻酸鹽處理。

鉻酸鹽鈍化膜主要有三價鉻與六價鉻的化合物以及基體金屬的鉻酸鹽組成。外觀隨合金成分、膜厚而變化，可由無色到彩虹色或棕黃色。膜層具有良好的耐蝕性和裝飾性；膜層緊密，與基體結合較好，對基體金屬可起到隔離保護作用。膜中的三價鉻不溶于水，構成膜的骨架，使膜有較高的強度和化學穩定性。而六價鉻是可溶性的，在膜中起填充作用，在潮濕的大氣中，即使膜被劃傷，六價鉻也能溶于水生成鉻酸鹽，使劃傷處重新鈍化而具有自愈合能力。

化學處理：化學處理包含了發黑處理、磷化處理，金屬的表面改性也稱表面優化，便是借助離子束、激光、等離子體等新技能方法，轉變材料表面及表面的組分、布局和性質，從而得到用傳統的冶金和表面處理技術無法得到的新薄層材料，或使傳統材料具有更好的性能。現代先進的表面改性技能主要有物理氣相沉積(簡稱PVD)、化學氣相沉積(簡稱CVD)、等離子體化學氣相沉積(簡稱PCVD)、離子注入和離子束沉積。