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PVD鍍膜加工

 PVD鍍膜加工在影響產品質量的五大因素〔操作者、設備、材料、工藝方法及生產環境)中，人是位的。PVD鍍膜故障的發生都與操作工專業技能和工作責任心有關。PVD鍍膜生產管理人員對操作工指導和監督不力，這些在PVD鍍膜企業較普遍存在的狀況,PVD鍍膜使得故障在所難免。要減少PVD鍍膜生產故障，提高PVD鍍膜從業人員的專業技能和工作責任心是十分重要的。

極值監控法：當膜厚度增加的時候其反射率和穿透率會跟著起變化，當反射率或穿透率走到極值點的時候，就可以知道鍍膜之光學厚度ND是監控波長的四分之一的整倍數。但是極值的方法誤差比較大，因為當反射率或者透過率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長處。

3.定值監控法：此方法利用停鍍點不在監控波長四分之一波位，然后由計算機計算在波長一時總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點。

真空鍍膜金屬真空鍍膜廠家

真空鍍膜的優點

TiN

中文名:氮化鈦;

顏色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系數:0.23VSNi;

zui高工作溫度:580℃;

優點:增加表面硬度、減少摩擦力;可低溫涂層，適合低溫零件;避免刀口之積屑現象;廣泛應用於鋼料成型加工。

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源，弧放電離子源，kaufman離子源，射頻離子源，霍爾離子源，冷陰極離子源，電子回旋離子源，陽極層離子源，感應耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。