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              發布時間:2020-07-25 20:23  






              大家在使用鍍鎳砂時一個主要困擾是:砂的鍍覆活性不穩定,由此導致上砂質量的波動。不穩定的一個主要原因是砂的退鍍,那為什么鍍鎳砂容易退鍍呢?可能這篇文章能給你一些答案。

              鍍鈦砂和鍍鎢砂,都屬于高耐腐蝕砂,鍍層穩定。比如,日本使用鍍鈦砂,耐久性2-3個月,有利于產品質量穩定和產線的自動化。


              鍍W砂,W與金剛石界面形成W2C化學鍵合,而且W-Ni相容性優異,有利于砂與基線鍍層的結合,所以鍍W砂也是很有潛力的線鋸原材料。


              直流二級離子鍍,是穩定的輝光放電;空心陰極離子鍍與熱絲弧離子鍍,是熱弧光放電,產生電子的原因均可簡單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度,導致核外電子的熱發射;首先,帶有正電位的引弧針(陽極)靠近帶有負電位的靶材(陰極),陰陽兩極距離足夠小時,兩極間的氣體會被擊穿,形成弧電流,這與電焊的引弧相類似。陰極電弧離子鍍的放電類型與前面幾種離子鍍的放電類型均不相同,它采用的是冷弧光放電。在眾多離子鍍膜技術中陰極電弧離子鍍可謂是其中的集大成者,其目前已經逐步發展為硬質薄膜領域的主力。


              其中熱陰極電子槍蒸發離子鍍,利用銅坩堝加熱融化被鍍金屬材料,利用鉭燈絲給工件加熱、除氣,利用電子槍增強離化率,不但可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂層,而且其結合力、耐磨性均有不俗表現,甚至用打磨的方法都難以除去。但是這些設備都只適合于 TiN涂層,或純金屬薄膜。對于多元涂層或復合涂層,則力不從心,難以適應高硬度材料高速切 削以及模具應用多樣性的要求。5、表面若被漂白劑或者酸附著,立即用水沖洗,再用或中性碳酸蘇打水溶液浸洗,用中性洗滌劑或溫水洗滌。


              基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

              b、壓強的大小. 為了保證膜層質量,壓強應盡可能低Pr≦(Pa)

              L表示蒸發源到基片的距離為L(cm)。

              c、蒸發速率.蒸發速率小時,沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結構疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結構均勻致密,機械強度高,膜層內應力大.

              d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時,吸附原子的動能隨之增大,形成的薄膜容易結晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時,則沒有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無定形態薄膜.




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