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發布時間：2021-08-05 22:39
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五、曝光
在這一步中，將使用特定波長的光對覆蓋襯底的光刻膠進行選擇性地照射。章宇軒介紹,我們在日常工作生活中，之所以能從顯示屏幕上看到色彩斑斕的畫面，就是離不開屏幕中厚度只有2μm、卻占面板成本16％的一層彩色薄膜。光刻膠中的感光劑會發生光化學反應，從而使正光刻膠被照射區域（感光區域）、負光刻膠未被照射的區域（非感光區）化學成分發生變化。這些化學成分發生變化的區域，在下一步的能夠溶解于特定的顯影液中。
在接受光照后，正性光刻膠中的感光劑DQ會發生光化學反應，變為乙烯酮，并進一步水解為茚并羧酸（Indene-Carboxylic-Acid, CA），羧酸在堿性溶劑中的溶解度比未感光部分的光刻膠高出約100倍，產生的羧酸同時還會促進酚醛樹脂的溶解。呼吸器：無論何時在工作環境下呼吸保護必須遵循中國職業安全健康管理局標準的規定和ANSI美國國家標準學會Z88。利用感光與未感光光刻膠對堿性溶劑的不同溶解度，就可以進行掩膜圖形的轉移。
曝光方法：
a、接觸式曝光（Contact Printing）掩膜板直接與光刻膠層接觸。
b、接近式曝光（Proximity Printing）掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm。
c、投影式曝光（Projection Printing）。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實現曝光。
d、步進式曝光(Stepper)
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4,曝光
前烘好的存底放在光刻膠襯底放在光刻機上，經與光刻版對準后，進行曝光，接受光照的光刻膠發生化學變化，形成潛影，
光源與光刻膠相匹配，也就是光源波長在光刻膠的敏感波段；
對準：指光刻板上與襯底的對版標記應準確對準，這樣一套光刻版各版之間的圖形才能彼此套準。
曝光時間，由光源強度，光刻膠種類，厚度等決定，
另外，為降低駐波效應影響，可在曝光后需進行烘焙，稱為光后烘焙（PEB）
NR77-20000PYNR9 3000P光刻膠廠家
光刻膠存儲條件及操作防護
光刻膠是一種可燃液體，儲存條件應符合對應的法規，不要與強氧化劑混合，存放在通風良好的地方，保持容器密閉，避免吸入蒸汽或霧氣，避免接觸眼睛、皮膚或衣服，操作后徹底清洗。
個人防護
眼睛：佩戴化學飛濺護目鏡。
皮膚：戴上適當的防護手套防止皮膚暴露。
服裝：穿戴合適的防護服防止皮膚暴露。
呼吸器：無論何時在工作環境下呼吸保護必須遵循中國職業安全健康管理局標準的規定和ANSI美國國家標準學會Z88.2的相關要求，或必須執行歐洲呼吸防護EN 149的標準。
NR9-250P
20．有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎？
A PC3-6000并不是光刻膠，它是用在chip
on glass 上的膠粘劑。
21．是否有Wax替代品？
A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定，比較容易去除掉。
22．貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料？
A 有，IC1-200就是
23．請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠？
A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟，都可以簡化。
24．一般電話咨詢光刻膠，我們應該向客戶咨詢哪些資料？
A 1 需要知道要涂在什么材質上，2
還有要知道需要做的膜厚，3
還要知道光刻膠的分辨率
4還有需要正膠還是負膠，5
需要國產還是進口的
27．想找一款膜厚在120um，的光刻膠，有什么光刻膠可以做到啊！
A 以前有使用過美國有款光刻膠可以達到Futurrex
NR21-20000P ，。
28．有沒有了解一款美國Futurrex
NR9-250P的光刻膠，請教下？
A 這是一款負性光刻膠，濕法蝕刻使用的，附著力很好，耐100度的溫度，國內也有可以代理的公司，Futurre
光刻膠是世界第4大的電子化學品制造商，在光刻膠的領域有著不錯的聲譽，在太陽能光伏，和LED半導體行業都有不錯的市場占有率。
29．想找款膜厚的產品，進行蝕刻，有什么好推薦？
A 厚膜應用（thick
film applicati），主要是指高縱橫比（Aspect
ratios）,高分辨率，高反差，有幾款產品向你推薦一下《NR4-8000P，NR2-20000P，NR5-8000，這些產品都需要用到邊膠清洗液》
的光刻
